フランスANNEALSYS真空急速焼鈍炉

産地：フランスAnnealSys、

型番：AS-ON 100/AS-One 150

AS-ONE縦型急速焼鈍炉はフランスAS社が生産し、AS-ONE 100、150、200の3つの型番に分けられ、それぞれ4インチ、6インチ、8インチの真空急速焼鈍炉製品に対応している。

適用：

−急速熱アニールRTA、

−急速熱酸化RTO、

−拡散、接触焼鈍、

−化合物半導体アニール、

-窒化、シリサイド化、

-セレン化、硫化、

−グラフェン堆積、カーボンナノチューブ成長、

-結晶化、緻密化、

技術仕様：

仕様

AS-ONE 100

AS-ONE 150

最大サンプル基底直径

100 mm（4インチ）

150 mm（6インチ）

キャビティ寸法

130 mm直径x 25 mm

200 mm直径x 25 mm

赤外線ランプ数/最大電力

12本/30 KW

18本/34 KW

赤外線ランプ冷却方式

扇風機

扇風機

ひょうじゅんおんどはんい

室温～1250°C

室温～1200°C

オプション高温バージョン範囲

室温～1500°C

室温～1300°C

昇温速度

0.1°C~200°C/s

0.1°C~150°C/s

温度制御

高速デジタルPIDコントローラ

高速デジタルPIDコントローラ

熱電対

K型

K型

こうおんけい

150°C~1100°C

400°C~1500°C

150°C~1100°C

400°C~1500°C

ガス注入

石英窓以下

石英窓以下

パージガス路

標準構成

標準構成

プロセスガス回路方式/数量

MFC/5ウェイ

MFC/5ウェイ

真空獲得システム

干泵（10-2Torr）

分子ポンプ（10-6 Torr）

干泵（10-2Torr）

分子ポンプ（10-6 Torr）

寸法/重量

510 mm x 1425 mm x 800 mm/194 kg

510 mmx 1425 mmx 800 mm/240 kg

参考顧客：

清華大学、北京大学、復旦大学、華南理工大学、天津中電18校、南京中電55校、GE上海研究開発センター、南方科大学、深セン大学など。

大型サンプル急速焼鈍炉

急速焼鈍炉（RTP/RTA）は、半導体材料やデバイスによく使用されるプロセスデバイスです。急速焼鈍炉は、真空、不活性雰囲気、異なるプロセスガス環境で使用することができる。

機器の特徴：

−高速熱処理、高速熱アニールRTP／RTA、

-真空、さらには高真空環境で使用することができます。

−156 mmX 156 mm電池シート、300 mmX 300 mm電池シートなどの太陽電池シートの急速アニーリング技術に広く使用されている、