博米科技が複数の画像テスト設備を携えてCIOE中国光博会に出展
今回のCIOE展示会の現場で、博米科技はマルチスペクトルランプボックス、内視鏡試験システムBOMI-TSECIT、標準QCランプボックスBM 03 QCなどの製品を携えて出展し、カメラ技術と応用分野で画像品質試験における蓄積を展示した。
09,14,2026 2観点
サムスンはこのほど、Micro Miraclesのコマーシャルを発表した。ゲームをする少年から細かい56階建ての摩天楼まで、三星プロモーションビデオの8つの驚くべきミクロモデルはすべてNanoscribeを用いて二光子重合増材製造技術に基づいて製造されている。三星広告の彫刻構造は最終的に科学と工業マイクロシステム分野におけるNanoscribeの高精度3 D印刷技術の能力を示した。この技術により、ナノスケールとミクロンスケールの世界における微光学と集積フォトニクス、マイクロ流体学、マイクロメカニカルとマイクロ電気機械システムなどの応用分野で想像可能または機能的な3 D設計を実現することができる。
サムスンの最新広告Micro Miracle
これらの驚くべきマイクロナノ構造はどのように実現されたのだろうか。答えはまさにNanoscribeが打ち出した本当の意味での革新的な3 Dマイクロナノ加工技術：3 D printing by 2 GL®3 Dナノとマイクロナノ加工のための新しい基準を確立した二光子階調リソグラフィ。
現在、Nanoscribe Quantum X alignプラットフォームには、この革新的な3 Dマイクロナノ加工技術が搭載され、アラインメントソフトウェアnanoPrintXが搭載されています。
新たにアップグレードされたQuantum X alignシステムに搭載された2 GL技術は、2光子重合（2 PP）の高解像度とボクセル調整技術を結合し、印刷層数を大幅に削減し、2 GLを現在の2 PP原理に基づく最も高速なマイクロスケール3 D印刷スキームにした。この技術は優れた形状精度と印刷品質を両立しながら高速印刷を実現し、新しい応用分野のために基礎を築き、印刷品質を高める前提でより短い印刷時間でより精細な微光学システムを製造することができる。印刷プロセス全体は、高速スキャンを維持しながらリアルタイムでレーザパワーを動的に調整することができます。これにより、ポリマエレメントは、任意の3 D形状の輪郭にマッチするように正確な寸法調整を得ることができる。スライスステップを必要とせず、形状歪みを発生させない要件の下で、最終的には、アーティファクトのない光学レベルの表面を持つ任意の3 Dプリント設計の100%リアルな形状を取得します。
二光子階調リソグラフィ技術は、2 PP原理に基づく3 Dマイクロナノ加工の新時代を示している。マイクロ光学とフォトニクスに加えて、この技術は多くの潜在的な応用にも適用でき、高速印刷、光学品質表面、微細なサブミクロン詳細またはテクスチャ表面が重要な要素となっている。Nanoscribeは3 D printing by 2 GLの開発を通じて、ボクセル調整技術を3次元レベルに導入した。
新しいQuantum X alignプラットフォームシステムの最新機能を詳しく見てみましょう。
Quantum X alignの印刷倉庫内：光ファイバ照明ユニットは光を光ファイバに結合し、自動検出を行い、光ファイバの光学軸に印刷を合わせる。照明ユニットは、最大32本の光ファイバを同時にサポートすることができます。
Quantum Xプラットフォームのタッチスクリーンは効率的で実用的な特徴を備えている。仮想ナビゲーションカメラは、印刷ヘッドの正確な位置に関する追加のフィードバックを提供し、複雑な基板のナビゲーションを簡単にします。
Quantum X alignシステムはチップアライメント印刷用の基板クランプを搭載し、使いやすい特徴を備え、gelpakを搭載している©1つ以上のチップを簡単に固定して一括処理することができます。印刷後、チップは基板クランプから容易に取り出すことができ、加工されたチップを損傷しないようにすることができます。
Quantum X alignシステムは最適化され、最高の配置精度を持つマイクロ光学素子の印刷に使用でき、光ファイバとフォトニックチップ上での自動整列を実現する。3 D printing by 2 GLは新しい高品質印刷と高速印刷は、自由空間微光結合（FSMAC）の産業化道路を推進するための基礎を築き、光子パッケージと集積の高効率安定光結合ソリューションに適用する。
3 D二光子マスクレスリソグラフィ技術と製品に関する詳細な問い合わせ
Nanoscribe中国支社-納糯三次元科学技術（上海）有限公司へようこそ
ドイツNanoscribe超高精度二光子マイクロナノ3 Dマスクレスリソグラフィシステム：
Photonic Professional GT 2二光子マイクロナノ3 Dマスクレスリソグラフィシステム
Quantum X Align二光子ナノ自動整列システム
Quantum X shape二光子高性能3 Dマイクロナノ加工システム
バイオX量 二光子高精度3 Dバイオプリントシステム
