蒸着装置、スパッタ装置、プローブ台の新製品発表

最近弊社は小型スパッタリングを新たにアップグレードしました蒸着装置：1、キャビティ材質の全アルミニウム合金を一体加工成形する。2、吸気口は直接キャビティ側壁全体に吸気ダクトを加工し、少なくとも3カ所のダクト接続口を減少させ、漏れ故障率を減少させる。3、設備幅は435 mmから420 mmに減少した。4、スパッタ磁場が強化された。5、6両製品はすべてSMA拡張ポートを予約し、結晶振動またはその他の信号入出力を行っている。小型卓上スパッタリング電力制御可能マグネトロンスパッタリング装置は、小型ではあるが機能が完備しており、電圧電流フィードバック、試料台回転、試料高さ調節、及び電動バッフル機能を搭載している。事前スパッタリング電力及び薄膜堆積電力をタイミング的に調整することにより、大部分の金属を均一に物理堆積することができ、真空チャンバは透明石英ガラスでサンプル汚染を減少させ、サンプルテーブルは回転してより均一な薄膜を得ることができ、各種金属薄膜を製造することができる。

2025モデルの1インチマイクロプローブ台：3軸スライド台の強化剛性強度を修正し、ストロークを増加させ、精度と使用寿命を向上させ、キャビティ部分の内径と高さを増加させ、電気インタフェースは強化絶縁抵抗と最高電圧上限をアップグレードした。