Nanoscribe二光子技術が3 Dマイクロナノ加工のための基準を定めた15年間

15年前、Nanoscribeが設立された。カルスルーエ工科大学（KIT）のテクノロジーSpin-offとして、この若い会社はすぐに二光子重合原理に基づく最初の試作機を発表し、実行することに成功し、Photonic Professionalシステムを私たちの顧客に渡しました。私たちは誇りと感謝を持って、この15年間、私たちと一緒に歩いてきたお客様とパートナーを振り返って、彼らがこのマイクロナノ加工技術を利用して得た革新と成果に驚嘆しました。

スピンオフとして、Nanoscribeはカルスルーエ理工学院（KIT）応用物理研究所とナノテクノロジー研究所マーティン・ウェgener教授が率いる課題グループに由来している。Martin Wegener教授と現在のカイザースラウテルン工業大学実験物理・技術物理学教授のGeorg von Freymann、およびNanoscribe現CSO Michael ThielとNanoscribe現CEOのMartin Hermatschweilerが2007年に共同で設立した。わずか1年後、Carl Zeiss Venture Beteiligngsgesellschaftがこのベンチャー企業に出資した。その後2021年6月、NanoscribeはBICOグループに加入した。

2光子吸収から高精度3 D印刷へ

ノーベル賞を受賞したMaria Goeppert-Mayerは1931年に二光子吸収の仮定によって二光子重合（2 PP）の理論的基礎を築いた。Theodore Maimanはまた30年もかけてこのレーザを開発した。2人の日本人物理学者Shoji MaruoとSatoshi Kawataはその後、1997年にレーザー装置を用いて2光子重合の原理を実験的に証明した。わずか4年後、Wegener教授の課題チームでは、KITは2001年に最初の二光子重合実験室装置を起動した。この基礎研究は最終的にこの新しいマイクロナノ加工技術の商業化の基礎を築いた。

初のナノスケール3 Dプリンタ

2007年には、Nanoscribeの最初のマイクロナノ加工システムがサブミクロン解像度3 D印刷技術として二光子重合に道を開いた。当初、科学的好奇心から、NanoscribeのPhotonic Professionalデバイスは急速にマイクロナノ加工を研究する科学研究実験室の標準ツールに発展し、世界10のTOP大学のうち9校がNanoscribeのデバイスを使用していた。同時に、2 PPは多くの応用分野の重要な賦能技術となり、さらに多くの工業シェアを占め続けている。その高精度3 D印刷技術により、Nanoscribeはマイクロナノ加工のために15年間の業界標準を設定している。

先駆者からグローバル市場の先駆者へ

Nanoscribeは高精度3 Dプリント分野の先駆的人物であり、1ミクロン未満から数センチまでのサイズ範囲の構造を加工するためのマイクロナノ加工技術を開発した。現在、従業員の3分の1以上が研究開発に従事しており、Nanosribeはこのような将来に向けたキーテクノロジーへの投資を増やしていることがわかります。2007年にスタートした4人のSpin-off社から、現在まで100人以上の素質の高い従業員を擁する会社まで、この元ベンチャー企業は国際的な視野を持つグローバル参加者になることに成功した。Nanoscribeはドイツ、中国、米国にあるサイト、および世界的に認証されたディーラーネットワークを通じて、現在3千人以上のアクティブなユーザーを持つNanoscribeコミュニティに販売と技術サポートサービスを提供しています。Nanoscribeに基づく高精度3 D印刷装置は、微光学、集積フォトニクス、光子パッケージ、微視的力学、材料開発、微小流体、生命科学などの分野の最先端研究と工業革新を推進している。

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