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instrumentb2bNanoscribeが新しい工業レベルの高精度マスクレスリソグラフィシステムを発表

新しいQuantum X shape:
高精度、高収量、体験性を再定義する

新しいQuantum X shapeシステムはNanoscribe工業級マスクレスリソグラフィシステムQuantum Xプラットフォーム製品シリーズの2台目の設備として、現在25 cm²の面積内でいかなる構造を印刷することができ、生命科学、マイクロ流体、材料工学における複雑な応用のための迅速な原型製作を大いに推進した。Quantum X shapeは、感光性樹脂の自動分配機能を備えた直立式印刷システムとして、標準的な6インチウェハの工業量産加工製造に最適である。

Nanoscribeが発売した新しい高精度3 Dプリントシステムとして、Quantum X shapeは科学研究と工業生産分野における3 Dマイクロナノ加工の潜在力を十分に掘り起こすために、迅速なプロトタイプ作成とウェハレベルの量産に使用されている。このシステムは二光子重合技術(2 PP)に基づく専門レーザー直写システムであり、サブミクロン精度の2.5 Dと3 D物体のマイクロナノ加工に*の設計自由度を提供することができる。Quantum X shapeは、6インチウェハに高精度3 Dマイクロナノ加工を施すことができる。この効率の向上はウエハレベルの量産に特に重要であり、これは科学研究と工業生産分野の応用に重大な意義がある。要するに、このシステムは3 Dマイクロナノ加工が複数の科学研究分野と工業業界で応用されるより多くの可能性(例えば生命科学、材料工学、マイクロ流体、マイクロナノ光学、マイクロ機械とマイクロ電子機械システム(MEMS)など)を広げている。

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最高精度の3 Dマイクロナノ加工技術を実現

二光子重合(2 PP)は最高精度と*設計の自由度を実現できる増材製造方法である。同類の最適な3 Dマイクロ加工システムであるQuantum X shapeは以下の優れた性能を持っている:

  • *すべての空間方向に100ナノメートルまで低い特性寸法制御は、ナノメートルおよびミクロンスケール印刷に適している

  • *最大50 mmのターゲット構造を作成し、中尺度印刷に適している

バランス精度と速度を最適化して生産性を向上

高速3 Dマイクロナノ加工システムQuantum X shapeは優れた形状精度と高精度な製作を実現することができる。この高品質の印刷効果はハイテク振動鏡システムとインテリジェント電子システム制御ユニットを結合した結果であり、同時に工業級フェムト秒パルスレーザ及び平穏で堅固な花崗岩操作プラットフォームから離れられない。Quantum X shapeはレーザー焦点軌跡制御を有し、振動子の加速と最適走査速度への減速を操作し、1 MHz変調速度でレーザーパワーを動的に調整することができる。

Quantum X shapeは*の自動界面検索機能を備えており、基板表面を30ナノメートルまでの精度で検出することができる。このような最高走査速度でのナノスケール精度の発現に加え、自己較正プログラムにより、最短時間で信頼性と正確な印刷を実現でき、3 Dマイクロナノ加工のために新しいものを確立した。これらの優れた性能は、Quantum X shapeを高速プロトタイプとして作成し、マイクロナノ光学に応用する

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Nanoscribeマイクロナノ加工技術を用いて作製した3 Dマイクロニードルは、高いアスペクト比、形状精度、鋭いエッジを持つ異なる設計変化を容易に実現する。

シンプルで効率的なワークフローで最高の体験を実現

感光性樹脂の自動分配機能は、ウェハレベルの加工と小ロット生産の工業製造にとって非常に重要である。ユーザはまた、デバイスの統合タッチスクリーンを介してQuantum X shape印刷システムに直接または遠隔アクセスして印刷ジョブを制御することもできる。リモートアクセスソフトウェアnanoConnectXにより、ユーザーはタッチスクリーンの表示オプションを見てすべての機能を操作することができ、どこからでも印刷システムに接続された印刷ジョブプロセスを起動、監視、制御することができます。これにより、チームメンバー全体(例えば、研究チーム貨物部門のすべてのメンバー)がパソコンで印刷システムにアクセスできるようになります。実験室の準備時間をできるだけ減らし、全体の準備、実行、監視印刷作業の効率を簡略化し、システムを共有する際にチームワークを大幅に向上させることを実現した。

3 Dマイクロナノ加工の新勢力が未来の科学技術を支援

Quantum X shapeは理想的な高速成形製作ツールとして、簡単なワークフローを通じて最高精度と高い設計自由度の製作を実現することができる。2019年に発売された初の2光子階調リソグラフィ(2 GL®) システムQuantum Xの同シリーズ製品、Quantum X shapeは3 Dマイクロナノ加工能力を向上させ、すなわち精度と速度を最大限にバランスさせて高精度な材料製造を実現し、高レベルの生産力と印刷品質を達成する。総じて言えば、工業級Quantum X印刷システムシリーズはナノメートルから中観寸法構造までのマイクロ製造技術を提供し、ウエハ級バッチ加工に適している。

3 D二光子マスクレスリソグラフィ技術と製品に関する詳細な問い合わせ

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ドイツNanoscribe超高精度二光子マイクロナノ加工システム:

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