高真空マグネトロンスパッタリング蒸発膜めっき装置は真空環境においてマグネトロンスパッタリング技術と蒸発法を結合して薄膜を製造するための装置であり、主に半導体材料、光学素子などの分野の薄膜製造に用いられる。
パフォーマンスの特長
薄膜の品質が高い：マグネトロンスパッタリングで堆積した薄膜は緻密で、付着力が強く、膜厚と成分を正確に制御することができる、真空蒸発は高純度フィルムの堆積を実現することができ、両者の結合は光学フィルム、電子デバイスフィルムなどの面で良好な応用効果を持つなど、性能の良いフィルムを製造することができる。
めっき材料は広く：金属、合金、化合物、半導体などの多種の材料を処理でき、マグネトロンスパッタリングによって高融点金属、合金及び化合物薄膜を堆積することができ、真空蒸発によって純金属、有機物などの薄膜を堆積することもできる。
プロセスの柔軟性が強い：マグネトロンスパッタリングの電力、ガス圧力、ターゲット基距離、及び真空蒸発の加熱温度、蒸発速度などのパラメータを調整することによって、単一ターゲットスパッタリング、多ターゲット共スパッタリング、反応スパッタリング、蒸発めっき及びそれらの組み合わせプロセスなどの多種のめっきプロセスを実現することができる。
応用分野
電子分野：半導体チップを製造するための電極、相互接続層、バリア層、及びフラットパネルディスプレイの透明導電膜、光学誘電体膜など、例えば酸化インジウムスズ透明電極、銅相互接続層などの製造。
光学分野：増透膜、フィルター膜、反射膜などの光学フィルムを製造でき、レーザーデバイス、太陽電池、光学レンズなどの光学素子の光学性能を向上させることができる。
機械分野：金型、軸受などの表面に硬質耐摩耗コーティング、自己潤滑コーティングなどを堆積し、その硬度、耐摩耗性と使用寿命を高める。
装飾分野：自動車内外の装飾品、電子製品の外殻、宝飾品などの表面に金属膜、合金膜、カラー膜などをめっきし、製品の美観性と装飾性を高めるために用いられる。