紫外オゾン洗浄機紫外線（紫外線）照射によるオゾン発生（O型₃）、材料表面を清浄、活性化または有機物汚染を除去する設備は、半導体、光学、実験室などの表面清浄度に対する要求が高い分野で広く使用されている。

パラメータは洗浄効果と適用範囲を直接決定し、核心指標は以下の通り：

紫外線波長：同時に含む必要がある185nm（オゾン生成）と254nm（有機物分解）、一部機種は波長占有率を調整でき、異なる汚染タイプに適合する。

紫外線強度：通常は10-100mW/cm²，強度が高いほどオゾン生成速度が速くなり、有機物分解効率が高くなる。

処理時間：一般1-30分、短いものは軽度の洗浄に用いられ、長いものは重度の有機汚染に用いられる。

キャビティ容積：小型機5-50L、メインフレーム100-500L、クリーニング対象のワークサイズに応じて選択する必要があります。

ガス源の要求：空気或いは純酸素を通すことができ、純酸素を通す時のオゾン濃度は更に高く、清潔効率は向上する30%-50%。

紫外オゾン洗浄機の操作規程：

使用前に設備の外観が完全で、各部位がしっかり固定されているかどうかをよくチェックしてください。

デバイスがシャットダウン状態で、電源ケーブルプラグがソケットに差し込まれていないことを確認します。

作業者は防護眼鏡や手袋などの防護用品を着用しなければならない。

被洗浄物を機器の洗浄エリアに置き、電源投入キーを押して、必要な洗浄モードを選択して時間を設定します。

洗浄が完了したら、手動で設備を閉じ、洗浄エリアの中の物品を調整します。

メンテナンス：

使用が完了するたびに、設備の表面と各部品、紫外線ランプの照射領域を洗浄しなければならない。

紫外線ランプを定期的に交換し、材料とフィルターを洗浄します。

新しいバルブを交換したら、オフにして電源を入れてテストし、バルブの交換が成功していることを確認します。

定期的に設備の全面的な検査とメンテナンスを行い、設備の正常な運行と洗浄効果を確保する。