2025年全国電子顕微鏡学学術年会は9月26日から30日（26日に到着、30日に離会）まで武漢市国際会議センターで開催された。研磨の前で5秋、真を求めて国のために模索する際、私たちは中国電子顕微鏡学会（対外）設立45周年の祝典を迎え、今回の年次総会は祝賀のために、顕微鏡学者は自分の学識と献身でミクロ世界の謎を解析し、科学技術強国のために勇敢に責任を負い、絶えず進取している。

今回の年次総会のテーマは、顕微逐夢5年、踔励発報神州である。今回の年次総会は材料科学と生命科学学科によって15の特別テーマ別会場を設立した：

1. 顕微鏡理論、計器方法と技術、

2. その場電子顕微鏡的特性評価、

3. 機能材料の微細構造特性化、

4. 構造材料及び欠陥、界面、表面、相転移と拡散、

5. 先進的な顕微分析技術の工業材料への応用

6. 走査プローブ顕微鏡特性評価（STM/AFMなど）、

7. 電子回折及び電子ホログラフィー（SEM、EBSD及びTEMを含む）、

8. 材料科学における集束イオンビーム（FIB）の応用

9. 低温電子顕微鏡特性評価、

10. 生物医学用電子顕微鏡技術の発展と応用

11. 農林及び生物科学分野における顕微鏡の応用（超分解能顕微鏡、レーザー共焦点顕微鏡など）、

12. 農林電子顕微鏡学の研究と応用

13. 先進的な材料の顕微特性評価と最先端の革新、

14. 顕微科学機器と先進材料、

15. 顕微鏡プラットフォームのインテリジェント化のアップグレードとオープン共有。

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復納科学器械（上海）有限公司（以下「復納科学技術」と略称する）は今回の会議に招待され、そして新製品の発表に際して、飛納大倉室自動化走査電子顕微鏡Phenom XLを携えて現場に展示され、5階へようこそ【5-17】復納科学技術ブースのテスト体験と交流、最新材料の特徴付けと製造技術を共同で検討する！

•会議時間

2025年9月26日～29日（26日到着）

•会議場所

武漢国際コンベンションセンター

復納科学技術ブース番号5-17

フィールドインタラクション

カピバラ、「ニンニク鳥」はあなたが持ってくるのを待っていますよ～

9月26日～29日のセッション期間

復納科学技術/飛納電子顕微鏡の公衆番号に注目する

返信くじを引く'

アンケートに記入すれば、インタラクティブに参加できます！

復納技術について

復納科学技術は2012年に設立され、欧米の先進的で安定した科学分析機器と製造設備の導入に専念し、中国の科学研究革新と工業のグレードアップを支援した。同社はすでに2500+社の中国人ユーザーにサービスを提供し、10社近くの国際知識（zhi）メーカーと長期的に安定した協力関係を構築し、共同で中国人ユーザーに高品質な製品と専門サービスを提供している。主な事業ラインは次のとおりです。

• 複納顕微イメージング：オランダPhenom卓上走査電子顕微鏡、ベルギーNEOSCAN高分解能卓上顕微鏡CT、ハンガリーTechnoorg Lindaイオン研磨器

• 透過型電子顕微鏡のその場解析：オランダDENSsolutions insitu透過試料ロッド、ハンガリーTechnoorg Linda TEMアルゴンイオン仕上げ器

• 複納清浄度検査：オランダPhenom ParticleX清浄度測定システム（リチウム電気、自動車、光学モジュール、鉄鋼介在物）、オランダFastmicro可視化粒子検出システム

• 複納ナノ製造：米国Forge Nano粉末原子層堆積システム、オランダVSParticleナノエアロゾル堆積システム

• 複納半導体：LabSEMI半導体ホース

• 複納生命科学：ハンガリーFemtonics二光子顕微鏡

PART.01 Phenomフェノール卓上走査型電子顕微鏡

飛納は全quan球領（ling）（xian）先のデスクトップ走査電子顕微鏡として、操作が簡単で、イメージング速度が速く、品質が高く、多くの研究者の愛顧を受けている。

1.新製品発表――Phenom XL G 3大倉室自動走査電子顕微鏡

最新発表の大倉室自動走査電子顕微鏡Phenom XL G 3は、3000時間の長寿命CeB結晶フィラメント、AI知能自動化機能により、走査電子顕微鏡の新紀元を開いた！Phenom XL G 3は、品質管理、研究開発テスト、正確な分析にかかわらず、仕事に向上をもたらします。

• 安定した信頼性：80年のトップ技術の伝承。

• CeB 6結晶フィラメントを採用：3000 h超長寿命、平均5年フィラメント交換。

• 工業4.0向け自動化とAIインテリジェント走査電子顕微鏡：プログラミングインターフェースを開放し、カスタマイズされた「ブラックランプ実験室」の検査プロセスを構築し、Mapsの地図式マルチモーダル、多次元自動パズル及び関連をサポートする。

• インストール環境を選択しない：減衰システムを内蔵し、生産現場、高床QC実験室などに直接置くことができる。

• 元工場集積エネルギースペクトルEDS：電子光学設置、画像収集からエネルギースペクトル分析と面分布まで、すべて同じ統一、直観的な界面で完成した。

• 低電圧イメージング機能：非導電性、導電性が悪い、および電子ビーム感受性サンプルに対して、金を噴霧せず、依然としてイメージング能力を持っている。

2.最高解像度――Phenomデスクトップ電界放出走査電子顕微鏡

飛納卓上電界放出走査電子顕微鏡、防振、卓上胴体上で大型電界放出に近い性能を得る。優れた低電圧イメージング能力により、電子ビームによるサンプルへの損傷と透過を軽減し、サンプルの真の形態を大幅に還元することができる。電子顕微鏡エネルギースペクトルの一体化設計を継続し、アップグレードした高速面スキャンは選択した元素の分布状況を即時に表示でき、リアルタイムエネルギースペクトル分析機能は検出効率を大幅に向上させた。

モデル推奨

Pharos STEM走査透過型電子顕微鏡

• 解像度：1 nmより優れている

• イメージングモード：BF、DF、HAADF

Pharos G 2卓上電界放出走査電子顕微鏡

• 分解能：1.5 nmより優れている

• 倍率：2000000 X

3.AFM-SEM原子間力走査電子顕微鏡

AFM-in-SEM技術の出現は原子間力顕微鏡（AFM）と走査電子顕微鏡（SEM）を結合し、多モード相関分析を実現した。プローブを興味のある領域（ROI）に正確にナビゲートするだけでなく、電気的性質を確実に特性化することができます。

モデル推奨（画像をクリックすると詳細が表示されます）

フェノム AFM-SEM

原子力走査電子顕微鏡一体機。フェムトナノ卓上走査電子顕微鏡と原子間力顕微鏡の利点を結合し、同一システムにおける試料の多モード相関分析を実現した。

ライトスコープ AFM-SEM

同期併用技術共通モデル互換サイマーフェザー、TESCAN、蔡司、日立、JEOLなどの主流ブランドSEMシステムは、他のブランドの電子顕微鏡もカスタマイズできる。

PART.02 Technoorg Lindaサンプル製造

Technoorg Lindaシリーズのイオン研磨器、イオン減薄器、イオン精修器は、SEM/TEM/XTEM/FIBサンプルの調製の有力なツールである。このシリーズの製品はイオンビーム技術を採用し、サンプルに対して高速研磨、表面精密加工及び最終研磨などを行うことができる。イオン研磨システムは高精度の表面処理技術であり、主に材料科学と半導体業界に用いられる。現在、ほとんどのイオン研磨システムは、従来のタッチスクリーンまたはメカニカルキーボードを使用して動作しています。最新のTechnoorg Linda製品SEMPREP SMARTは革新的にスマートAI操作モードを採用し、対話可能なイオン研磨システムである！

第03部DENSsolutions TEMその場サンプルバー

DENSsolutions製品はその場TEMサンプルに外部刺激を与え、TEMサンプルの実際の環境下での動的現象を捕捉することができる。現在提供されている4種類のinsitu実験方案：Wildfire TEM insitu加熱方案、Lightning TEM insitu熱電方案、Arctic TEM insitu低温冷凍熱電方案、Climate Infinity TEM insitu気相加熱加電方案とStream Infinity TEM insitu液相加熱加電方案は、各学科分野が関連条件下で各種材料と技術を研究するために可能性を開いた。

PART.04解像度が最も高い卓上顕微鏡CT

NEOSCANデスクトップ顕微CTスキャンシステムは場所に対する要求が少なく、メンテナンスが不要で、高空間解像度を備えている。材料内部構造をリアルに再現することができ、材料研究、故障分析、プロセス最適化においてすでにかけがえのない試験手段となっている。

PART.05 フェムトニックスにこうしけんびきょう

「フェルミ光学」二光子顕微イメージング製品はハンガリーのブダペストから来ており、世界のトップ研究者に先進的な二光子イメージングシステムを提供することに力を入れている。Atlas音響光学三次元二光子顕微鏡は音響光学技術を採用し、市販品よりはるかに高いスキャン速度を持っている。3 Dランダムアクセスポイントのスキャン速度が最大100 kHz、高速任意フレーム走査速度は40 fps@510 ×510ピクセル、ターゲットフォーカス視野時に最大3000 fpsを作成しました。20以上の世界記録、および44項目の国際専門（zhuan）利，技術成果物の出版物が200部を超えた、ほとんどの成果は『Nature』『Science』『Cell』『Neuron』などのトップジャーナルに発表された。

PART.06 Forge Nano粉末原子層堆積

Forge Nanoは原子層堆積技術（ALD）を採用し、被覆研究開発から工業生産までの一連のソリューションを提供することができ、流動床技術、回転床、振動床などを含む。ミリグラムからトン級の粉末処理量を実現し、実験室から生産までの製品開発計画を簡単に実現することができます。ALDは多種の電極、電解質粉末材料に応用でき、電池周期の寿命を延長し、ガス生成を減少し、リチウムの不可逆損失と高電圧の動作安定性を減少するなどの優位性がある。

PART.07 VSParticleナノ堆積システム

VSP−P 1ナノ印刷堆積システムは、独自の性能を有する無機ナノ構造材料の印刷直書きを実現することができる。印刷コーティングの粒子はVSP−G 1ナノ粒子発生器により生成され、火花アブレーションにより生成されたエアロゾル粒子は典型的な粒子径が20 nm以下であり、界面活性剤やその他の有機添加物質を含まない。ナノ粒子の製造と印刷堆積の全過程は自動化され、後続の有機成分の熱処理除去を行う必要はない。