薄膜作製プロセスにおいて、いくつかの金属有機化合物（MOC)、水素化物、アンモニアガスなどの前駆体蒸気圧は標準大気圧よりはるかに低い（760 Torr)、常温では蒸発しにくい。これらの前駆体は化学蒸着に輸送される必要がある（CVD）反応器において、従来の方法は、溶媒を用いる/溶質化学と液体輸送。いくつかの固体前駆体は溶解度の制限があり、これはプロセスチャンバに送られる最大質量流量に影響を与える。

我々は先進的な圧力測定と制御技術を採用し、固体前駆体蒸気の輸送を直接制御することができ、溶媒を使用する必要がなく、それによって正確で繰り返し可能な輸送を実現し、薄膜材料の製造をより効率的にすることができる。

流量範囲に対するさまざまな分野のニーズに対応する、強力な低蒸気圧コントローラを内蔵CPU、広範囲のインテリジェント流量制御を実現でき、制御範囲は全レンジの10%~100%。

この低蒸気圧制御装置は、30℃~200℃の操作温度範囲内で安定した測定制御を維持し、劣悪な環境に適している。採用モドバスプロトコル（RS485/232）を使用して、コンピュータや他のデバイスとの接続を容易に実現し、データ通信や遠隔制御を行うことができます。

半導体の集積回路製造、光起電力薄膜太陽電池、新材料の研究開発、医療機器バイオセンサなど多くの業界に広く応用され、重要な薄膜技術を通じて、各業界で高品質の薄膜材料を生産することができる。

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