水冷紫外レーザマーキングマシン

プロフィール

1、動作原理と特徴：

水冷紫外レーザマーキングマシンは三段階空洞内周波数逓倍（THG）技術を用いて赤外レーザと比較し、355 nm紫外光集束スポットは極めて小さく、材料の機械的変形を大幅に低減でき、加工熱影響領域は微々たるものであった。

2、機種特徴：

1、半導体レーザポンプを用いて、光学共振器内で3次周波数逓倍出力355 nm波長レーザを行い、電気光学変換効率が高い光束品質はTEM 00モードである。

2、紫外レーザは冷光源に属し、熱影響領域が小さく、卓yueのビーム品質は超高精細打標効果を創造した。

3、輸入スキャンを採用し、標識速度が速く、同時にマイクロカットとドリルに適している。

4、超高のピーク出力が高く、極めて少ない熱効果の特徴、アルミナ、プラスチックなどの材料に非常に適している

5、レーザーは2万時間無料でメンテナンスし、消耗品がなく、使用コストが安く、省電力で省エネ

6、一体モジュール化設計で、メンテナンスが便利で、体積が小さく、環境保護を標識し、ROH S基準を満たす。

3、適用業界

自動車用電子部品、プラスチック部品、携帯電話部品、LCDスクリーン彫刻二次元コード及び商標、セラミックス、サファイアチップ、FPCフレキシブル回路基板マイクロドリル、生物医学用ガラス配線切断、容量式タッチスクリーンITOエッチング。

4、適用材料

プラスチック部品及び多種の金属材料、セラミックス、サファイアシート、ガラス、透光性高分子材料。

5、制御システムは光学系部品の制御と指示を含む全設備の運転を制御する。

7、光学系光学系はレーザ、振動鏡走査系、フォーカスレンズなどの部品を含む。

8、冷却システムは簡便な水冷方式を採用し、冷却システムは光学系の長期的、安定的な動作を保障する。

9、作業環境の要求

周囲温度は15〜35℃が好ましい。湿度は40〜80%が望ましい。結露がない。

装置付近に強い電磁信号干渉がないこと。静電気防止装置を取り付け、遮蔽などを強化する必要がある。

全体の説明

レーザ性能パラメータ

レーザー出力：3 W/5 W/10 Wレーザー波長：355 nm

レーザー変調Q周波数：0-100 KHzビーム品質：≦1.1 M 2

励起源：半導体808 nmポンプ源彫刻深さ：≦0.1 mm（材料別）

彫刻線速：≦18000 mm/s最小線幅：0.01 mm

最小文字：0.1 mm繰り返し精度：±0.001 mm

彫刻範囲：100×100 mm-280×280 mm（オプション）

全体の消費電力：1200 W、1300 W、1500 W（レーザー水冷却機を含む）

給電要求：単相/220 V/50 Hz/10 A

設定