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住所
上海市嘉定区馬陸鎮剣蘭路315号3棟203室
Shanghai Chasen Instrument Co., Ltd
上海市嘉定区馬陸鎮剣蘭路315号3棟203室
ヴィーゲンスWH 420かねつじきかくはんき
ホットプレート温度:300℃ 。サンプル設定温度:300℃ 。温度制御精度±2℃ 。攪拌速度:150~1500rpm。攪拌ビット:4ビット。
製品説明:
* マイクロコンピュータ制御技術,設備の動作性能の安定した信頼性を保証する
* かねつおんど,かくはんそくど,動作時間及び過熱保護,温度計回転数のデジタル化設定と表示
* 最終設定された動作パラメータを自動的に記憶する,実験条件を固定して使用するのに非常に便利である
* コントロールパネルの上に腐食防止ガイドが設計されている,液体が飛び散っても,設備を壊すこともありません
* シールハウジング設計,キー部品の分離インストール、比較的過酷なラボ環境に適した条件
* 板面温度が60℃時,高温ランプが点滅し始めた,使用者に安全な加熱磁気攪拌機に注意するよう促す
* セラミック加熱盤、加熱過程は比較的に温和で、実験室のサンプルに対する汎用加熱攪拌需要を満たす
* あんぜんおんど(℃):加熱板内面設定温度を超える50 度又は媒体設定温度を超える50 度、加熱自動切断
ヴィーゲンスWH 420かねつじきかくはんき
技術仕様:
モデル |
WH420 |
表示モード |
発光ダイオード |
ホットプレート温度(℃) |
300 |
サンプル設定温度(配Pt100)(℃) |
300 |
温度制御精度(配Pt100)(℃) |
±2 |
あんぜんほごおんど(℃) |
370 |
かくはんそくど(rpm) |
150~1500 |
かねつでんりょくW |
1000 |
かくはん量(L)過酸化水素 |
2 |
ホットプレートマテリアル |
アルミニウム加熱リボンセラミックコーティング |
タイミング機能(分) |
1-9959/連続 |
加熱攪拌位置 |
4 ビット |
スケール-積分-微分パラメータプリセット |
1 セットスケール-積分-微分 |
インターーフェース |
RS 232タイプ |
ようえきかねつほご△T℃) |
-- |
盤面寸法(ミリメートル) |
(160x155mm)x4 |
外形寸法(ミリメートル) |
405x320x80 |
注文番号 |
400315 |