真空タングステンワイヤ炉

真空タングステンワイヤ炉

アプリケーション：

この装置は、金属化合物、透明セラミックス、無機化合物、半導体材料、光学材料などを真空または保護雰囲気中で焼結することができ、金属材料の熱処理としても使用することができる。

製品特徴：

ヒータはサスペンションタングステン網加熱素子を採用し、高温下で動作が安定し、信頼性があり、使用寿命が長い。

電気制御システムは自動温度制御を実行でき、PIDは自己整定機能を持つ。

主なパフォーマンスパラメータ：

温度範囲：定格温度1900 ~ 2300℃、zuiは2800℃以上に達し、超高温処理の需要を満たすことができる。

真空性能：冷態限界真空度≧6.67×10µPa、圧力上昇率≦4 Pa/時間、有効に不純物ガスを排除することができる。

作業区の規格：一般的な恒温区の寸法はΦ80×100 mmからΦ400×600 mmで、必要に応じてカスタマイズすることができる。

電力と電源：定格電力25 KW ~ 340 KWは等しくなく、電源電圧380 V 50 Hz、ヒータ動作電圧0 ~ 28 V。

コアメリットの特徴：

清浄無汚染：炉内に炭素元素がなく、炭素汚染を避け、炭素忌避材料に高潔な清浄加工環境を提供する。

精密安定：温度均一性≦±5℃、真空度維持能力が強く、材料処理の一致性を保障する。

安全・信頼性：多重保護メカニズムと水冷設計、高温作業リスクを効果的に回避し、設備寿命を延長する。

真空タングステンワイヤ炉主な用途：

難溶融金属加工：タングステン、モリブデン、タンタル、ニオブなどの金属及びその合金の焼結と脱気処理。

セラミックス焼結：透明セラミックス、アルミナセラミックス、炭化タンタルなどの高級セラミックスの高温焼結。

特殊材料処理：半導体材料、サファイア結晶、光学材料の熱処理と脱水酸基。

科学研究と生産：大学、科学研究機構の材料研究開発、航空宇宙、医療、電子などの分野の小ロット生産。