紫外レーザ直写リソグラフィシステム_ AOD

交渉可能更新02/10

モデル

製造者の性質: プロデューサー

製品カテゴリー

原産地

オンラインコンサルト

概要

直写リソグラフィ加工装置、紫外リソグラフィ、紫外レーザ直写リソグラフィシステム_ AOD：レーザ直写装置は主にマスクなし直接露光転写微細構造パターンに用いられ、回折光学素子、マイクロ電気機械システムを製造する。フォトレジストコロイドをコーティングするための各種基板は、回折光学素子、マイクロ電気機械系加工プラットフォーム装置として、ガラス、シリコンシートなどの平面材料にマスクなしで直接露光される。

製品詳細

紫外レーザ直写リソグラフィシステム_ AOD：レーザー直写装置は主にマスクなしの直接露光転写微細構造パターンに用いられ、回折光学素子、マイクロ電気機械システムを製造する。フォトレジストコロイドをコーティングするための各種基板は、回折光学素子、マイクロ電気機械系加工プラットフォーム装置として、ガラス、シリコンシートなどの平面材料にマスクなしで直接露光される。

紫外レーザ直写リソグラフィシステム_ AOD直書パフォーマンスパラメータ
ライトヘッド	高分解能	100×	50×	20×	10×	5×
最小特徴寸法（μm）	0.25	0.3	0.6	1	2	4
粗さ（3σ，nm）	50	60	70	80	110	160
CD均一性（3σ，nm）	50	60	80	130	180	250
ソケット精度100×100 mm²（nm）	300	300	500	500	800	1000
書き込み速度mm²/min	5	15	40	150	600	2000
100×100 mm²書き込み時間（min）	3000	740	255	72	20	7
システムの特徴
光源	405 nmまたは375 nm
基板サイズ	最大9インチ
基板の厚さ	0.1mm〜15mm
最大露出面積	200×200mm²
おんどあんていせい	±0.1°
グレーレベル	4096
拡張性	マルチチャネル拡張をサポート
特色ある機能
スクリプト化された書き込みモード	スクリプト化されたプログラミングインタフェースを提供し、ユーザーのカスタム加工構造をサポートする
書き込みとスライスソフトウェア	JPG、TIFF、GDSなど多様なフォーマットをサポート
リアルタイムオートフォーカス	オプチカルフォーカス
オートフォーカスレンジ	100μm
システム部品
対物レンズ	5×、10×、20×、50×、100×、オプションの高解像度レンズ
システムサイズ
縦横高さ	1320mm×1320mm×2000mm
重量	1100キログラム
インストール条件
電気的条件	230VAC±5%、50/60Hz、16A
環境温度	温度：21±1摂氏度、湿度：50%~ 70%、結露なし
あっしゅくくうき	6-9bar、±0.5bar
かんきょうしょうめい	黄光
クリーンレベル	ミルクリーンルーム

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