Spin Dryer遠心乾燥機OKK半導体ウエハ乾燥機

OKK大宮工業Spin Dryer SPDシリーズは半導体製造プロセスのために設計されたウエハ遠心脱水設備であり、主に洗浄後のウエハ（2-12インチ）の高効率、無汚染乾燥に用いられる。このシリーズの設備はOKKオリジナルの鄒自動平衡技術（FAB）鄒と鄒浄室の互換設計に依拠し、低振動、高潔浄度脱水を実現し、粒子汚染を回避し、前工程後の湿式処理段階に適用する。

日本OKK大宮工業（Omiya Kogyo）SPDシリーズは半導体ウエハのために開発された高精度遠心回転乾燥機（Spin Dryer）であり、主にウエハ洗浄後の高効率、クリーン脱水に用いられ、半導体製造プロセスにおける重要な設備である。

アプリケーションシーンとテクノロジーの利点

鄒コア応用：半導体ウエハ洗浄後脱水し、Spin Rinse Dryer（SRD）システムに合わせて使用し、「洗浄乾燥」一体化プロセスを実現する。

半導体シリコンウエハ（Si Wafer）洗浄後乾燥

化合物半導体（GaAs，SiC，GaN）のウェハ乾燥

フォトマスク/ガラス基板、精密電子部品の清浄乾燥

8インチ、12インチのミッドレンジプロセスに対応

‌技術上のハイライト‌：

鄒FAB（Full Automatic Balancing）〓dumy waferを必要とせずに1～25枚のウェハの重量差を自動的にバランスさせることができます。

鄒無振動設計鄒：振動分析技術に基づいて、高精度回転を実現し、ウエハ表面の完全性を保障する。

典型的な顧客：グローバルウェハ代理工場、半導体パッケージ試験工場、マイクロ電子研究開発実験室。

製品の進化と代替関係

SPDシリーズはOKKの初期製品ラインであり、現在はOKHシリーズ（Horizon型）とOKVシリーズ（Vertical型）に徐々に置き換えられている：

鄒OKHシリーズ鄒：水平式設計、双/四キャリア同時乾燥をサポートし、高生産能力生産ラインに適用する。

OKVシリーズ：垂直式構造、敷地面積が小さく、研究開発と小ロット生産に適している。

SPD160RN/SPD180RN/H840A/H1120RN/SPD-100/SPD-200/SPD-300/

日本SPINDRYER乾燥機半導体業界用ウエハ洗浄機OKH-MR洗浄+乾燥オールインワン機同時に加圧ガス+微粒化純水を噴射し、6段速度（10〜600 min⁻）、10種類のプロセス処方、N₂不活性ガスを支持する

OKV-600シリーズ（標準真空乾燥）

代表型式：OKV-600、OKV-600 S

位置決め：6インチウエハ/小型精密部品真空乾燥

コア機能

真空環境+遠心回転、無酸素酸化防止、低温急速脱水

標準イオン発生器+ULPAろ過、清浄度は100級に達する

周波数変換速度変調（10～600 rpm）、多段プログラム、タイミング制御

全密封SUS 316 Lキャビティ、電解研磨、低発塵、耐腐食

適用：6インチウエハ、セラミック基板、光学レンズ、医療デバイス、医療デバイス、光学レンズ、医療デバイス、光学レンズ、医療デバイス、光学レンズ、光学デバイス、光学デバイス、光学デバイス、光学デバイス、光学デバイス、光学デバイス、光学デバイス、光学デバイス、光学デバイス、光学デバイス、光学デバイス

2.OKV-800シリーズ（大型/重荷真空乾燥）

代表型式：OKV-800、OKV-800 SA

位置決め：8/12インチウエハ、大サイズ/大ロットワーク真空乾燥

コア機能

高剛性キャビティ、高精度動平衡、重負荷低振動

真空+熱気流デュアルモードで、乾燥がより均一で効率が高い

自動ドア、安全インターロック、真空漏れ検出

Nタンパ不活性ガス置換を支持し、酸化防止を強化する

適用：12インチウエハ、大型基板、ロット精密部品

代表型式：OKV-MR

位置決め：真空環境下で洗浄+乾燥一体化

コア機能

真空チャンバ内の同期による微粒子化洗浄+真空遠心乾燥の完了

全過程無酸素、酸化と二次汚染を根絶する

10組のプロセス処方、多材質ワークピースに適合

適用：高価値、酸化しやすい精密部品のワンストップ処理

Spin Dryer遠心乾燥機OKK半導体ウエハ乾燥機

Spin Dryer遠心乾燥機OKK半導体ウエハ乾燥機