上海添時のPECVDプラズマ増強蒸着

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概要

PECVDプラズマ増強蒸着は1200℃プラズマ増強混合物理化学蒸着（HPCVD）二重温度領域回転炉システム源（自動整合機能付き）、上流insitu蒸発舟、4チャンネル陽子流量計制御システム及び性能に優れた真空ポンプ組成である。無機複合粉末の熱処理及び粉末表面の均一被覆（例えば：リチウムイオン電池陰極粉末の導電性被覆の製造等）。

製品詳細

PECVDプラズマ強化化学蒸着プラズマを用いてガス反応を促進するCVD技術である。特徴：

1、低温堆積：PECVDは低い基材温度で行うことができ、プラズマが提供するエネルギーはガス反応を促進し、堆積温度の需要を下げることができるからである。

2、高堆積速度：プラズマはガス反応速度を増強し、それによって薄膜堆積速度を高めた。

3、良好な膜品質：PECVD堆積の膜は通常比較的に良い均一性と比較的に低い欠陥密度を有し、高品質の膜を必要とする応用に適している。

4、適応性が強い：酸化物、窒化物とフッ化物などの多種の材料を堆積することができ、半導体、光電デバイスと保護コーティングなどの分野に広く応用されている。

5、制御性が良い：プラズマのパラメータ（電力、ガス流量、圧力など）を調整することにより、薄膜の成分と性質を正確に制御することができる。

加熱炉パラメータ

▪最高温度：1200ºC（<30 min）、連続動作温度：1100℃、

▪2つのPID温度制御器及び30段プログラマブル温度制御システム、

▪入力電力：208-240 V、単相、最大電力：2.5 KW、

▪高純度アルミナ繊維保温層はエネルギー消費を最大限に低減することができる、

▪回転炉回転速度：2−10 rpm、

▪炉体の開式設計は、サンプルの急速な冷却を達成し、炉管の交換を容易にする。

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