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P 170全自動ウェハプローブ輪郭計/段差計

交渉可能更新01/24
モデル
製造者の性質
プロデューサー
製品カテゴリー
原産地
概要
P 170全自動ウェハプローブ輪郭計/段差計
製品詳細

P-170はcassette-to-cassetteプローブ輪郭計であり、業界をリードするP-17デスクトップシステムの測定性能と生産検証済みHRP®-260の機械搬送アームが結合される。このような組み合わせは、半導体、化合物半導体、関連業界に適した極めて低い所有コストを提供する。P−170は、画像の接合を必要とせずに200 mmまでスキャンできるステップ高さ、粗さ、反り、応力の2 Dおよび3 D測定を行うことができる。

このシステムにはUltraLightが組み込まれています®センサ、定力制御、超平走査プラットフォームを備えているため、優れた測定安定性を備えている。クリック式プラットフォーム制御、上面視と側面視光学系、光学ズーム付き高解像度カメラなどの機能により、プログラム設定が簡単で迅速である。P−170は表面形態を定量化するための各種フィルタ、レベリング、分析アルゴリズムを備え、2 Dまたは3 D測定をサポートすることができる。そして、パターン認識、順序付けと特徴検出によって全自動測定を実現する。




二、機能

設備の特徴

・段差高さ:数ナノメートルから1000μm

・微力恒力制御:0.03〜50 mg

・サンプルの全直径スキャン、画像の接合が不要

・動画:500万画素高解像度カラービデオカメラ

・円弧補正:プローブの円弧運動による誤差の解消

・ソフトウェア:シンプルで使いやすいソフトウェアインタフェース

・生産能力:シーケンシング、パターン認識、SECS/GEMによる全自動化

・ウエハ機械搬送アーム:75 mmから200 mmの不透明(例えばシリコン)と透明(例えばサファイア)サンプルの自動ローディング


主な用途

・段差高さ:2 Dと3 D段差高さ

・テクスチャ:2 Dと3 D粗さとうねり

・形状:2 Dと3 Dの反りと形状

・応力:2 D及び3 D薄膜応力

・欠陥再検査:2 Dと3 D欠陥の表面形態

工業応用

・半導体

・化合物半導体

・LED:発光ダイオード

・MEMS:マイコン電気システム

・データストア

・自動車


三、応用例

・段差高さ

P−170は、ナノスケール〜1000μmの2 D及び3 Dステップ高さの測定を提供することができる。これによりエッチング、スパッタリング、SIMS,堆積、スピンコーティング、CMPおよび他のプロセス中に堆積または除去された材料。P−170は、ステップ高さにかかわらず動的に調整して同じ微力を加えることができる定力制御機能を有する。これにより、良好な測定安定性が保証され、フォトレジストなどの軟質材料を正確に測定することができる。


・テクスチャ:粗さとうねり

P−170は、2 D及び3 Dテクスチャ測定を提供し、サンプルの粗さ及びうねりを定量化する。ソフトウェアフィルタ機能は測定値を粗さとうねりの部分に分け、二乗平均(RMS)粗さなどのパラメータを計算する。


・外形:反りと形状

P−170は、表面の2 D形状または反りを測定することができる。これは、半導体または化合物半導体装置の製造における多層堆積中の層と層との不整合による反りの原因となるウエハの反りの測定を含む。P−170はまた、レンズを含む構造の高さ及び曲率半径を定量化することができる。


・応力:2 D及び3 D薄膜応力

P−170は、複数のプロセス層を含む半導体または化合物半導体装置の製造中に発生した応力を測定することができる。応力チャックを用いて試料を中性位置に支持し、試料の反りを正確に測定した。次に、Stoney方程式を適用して、薄膜堆積プロセスなどの形状変化を用いて応力を計算した。2 D応力は直径200 mmの試料上で単一走査により測定することにより、画像の接合を必要としない。3 D応力の測定は複数の2 D走査を用い、走査間のθプラットフォームの回転と組み合わせてサンプル表面全体を測定した。


・欠陥再検査

欠陥レビューは、スクラッチ深さなどの欠陥形態を測定するために使用される。欠陥検出装置は欠陥を検出し、その位置座標をKLARFファイルに書き込む。「欠陥再検査」機能はKLARFファイルを読み取り、サンプルをアラインメントし、ユーザーが欠陥を2 Dまたは3 D測定に選択できるようにする。