ナノフォトエレクトロニクス装置

蘇州華維納ナノテクノロジー有限公司2011年に設立されたハイテク革新型会社は、帰国と国内のハイレベルな人材で構成され、同社にはポストドクターフローステーションが設置されている。

ナノフォトエレクトロニクス装置全く新しい技術経路を用いて加工解像度を高め、突起回折限界の制限を一挙に突破し、ナノスケール加工を成功に実現した、現在のレーザー直写は有機レジストにしか使用できない現状を突破し、各種受容体材料に幅広く応用でき、レーザー直写装置の応用範囲を大幅に拡大した。

次世代レーザー直写リソグラフィ装置の特徴

コア知的財産権を有する国産レーザー直写装置

回折限界を超える加工能力を持つ

ナノフォトエレクトロニクス装置多様な受容体材料に適用可能

当社はお客様のニーズに合わせてカスタマイズされたデバイスを提供し、さまざまなマイクロナノ構造サンプルの加工サービスを提供することができます。

部分加工サンプル下図