マスクレスリソグラフィ装置

交渉可能更新02/10

モデル

製造者の性質: プロデューサー

製品カテゴリー

原産地

オンラインコンサルト

概要

マスクレスリソグラフィ装置_ UVD：コンパクトデスクトップマスクレスリソグラフィシステムは、デジタルマイクロミラー技術を用いて高速マスクレスパターン生成を行い、最高0.5μmの最小特徴寸法を実現することができる。高精度リアルタイム合焦と視覚位置合わせソケット技術を搭載し、主にMEMS、光子デバイス、量子計算チップ及びセンサなどの分野の高速プロトタイプ開発に応用されている。

製品詳細

デジタル投影マスクレスリソグラフィシステム_ UVD：コンパクトデスクトップマスクレスリソグラフィシステム、デジタルマイクロミラー技術を用いて高速マスクレスパターン生成を行い、最高0.5μmの最小特徴寸法を実現できる。高精度リアルタイム合焦と視覚位置合わせソケット技術を搭載し、主にMEMS、光子デバイス、量子計算チップ及びセンサなどの分野の高速プロトタイプ開発に応用されている。

マスクレスリソグラフィ装置_UVDパフォーマンスパラメータ
ライトヘッド	50×	20×	10×	5×
最小特徴寸法（μm）	0.5	0.8	1	2.5
粗さ（3σ，nm）	70	80	100	200
CD均一性（3σ，nm）	80	130	180	250
ソケット精度100×100 mm²（nm）	500	500	800	1000
書き込み速度mm²/min	13	50	100	180
システムの特徴
光源	405 nmまたは385 nmまたは365 nm
基板サイズ	最大8インチ
基板の厚さ	0.1mm〜8mm
最大露出面積	190×190mm²
おんどあんていせい	±0.1°
グレーレベル	1024
拡張性	拡張2波長光源のサポート
特色ある機能
スクリプト化された書き込みモード	スクリプト化されたプログラミングインタフェースを提供し、ユーザーのカスタム加工構造をサポートする
オンライン描画加工モード	リアルタイムオンライン描画をサポートし、サンプルのリアルタイム画面に任意の図形を描画して直接加工する
書き込みとスライスソフトウェア	JPG、TIFF、GDS、DXFなど多種のフォーマットをサポートする
リアルタイムオートフォーカス	オプチカルフォーカス
オートフォーカスレンジ	70 ミクロメートル
システム部品
対物レンズ	5×，10×，20×，50×，100×
システムサイズ
縦横高さ	850mm×940mm×780mm
	850mm×940mm×1470mm
重量	250 KG（本体重量）
インストール条件
電気的条件	230VAC±5%、50/60Hz、10A
環境温度	温度：21±1摂氏度、湿度：50%~ 70%、結露なし
あっしゅくくうき	6-9bar、±0.5bar
かんきょうしょうめい	黄光
クリーンレベル	万級クリーンルーム

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