レーザ直写技術

蘇州華維納ナノテクノロジー有限公司2011年に設立されたハイテク革新型会社は、帰国と国内のハイレベルな人材で構成され、同社にはポストドクターフローステーションが設置されている。

レーザ直写技術全く新しい技術経路を用いて加工解像度を高め、突起回折限界の制限を一挙に突破し、ナノスケール加工を成功に実現した、現在のレーザー直写は有機レジストにしか使用できない現状を突破し、各種受容体材料に幅広く応用でき、レーザー直写装置の応用範囲を大幅に拡大した。

次世代レーザー直写リソグラフィ装置の特徴

コア知的財産権を有する国産レーザー直写装置

回折限界を超える加工能力を持つ

レーザ直写技術多様な受容体材料に適用可能

当社はお客様のニーズに合わせてカスタマイズされたデバイスを提供し、さまざまなマイクロナノ構造サンプルの加工サービスを提供することができます。

部分加工サンプル下図