集積回路超純水設備

大規模な集積回路超純水水質のうち、優先的に注目されている水質指標は、抵抗率、TOC、シリコン、微粒子、重金属、溶存酸素、アルカリ金属など、これらの物質は水に溶けるが、集積回路チップの製造過程で使用される水質に含まれるイオン成分が多ければ多いほど、製品の製造プロセスに与える影響が大きくなり、製品の良率が低下する。

集積回路の超純水設備は工業用半導体原材料と使用する容器の洗浄、フォトリソグラフィマスク板の製作及びシリコンウェハ酸化用の水蒸気源などによく用いられる。また、真空管などの作製、厚膜や薄膜回路、固体電子デバイス、印刷回路などにも超純水を使用する必要がある。科学技術の絶えずの発展に伴い、集積回路の集積度は日増しに増加し、水質に対する要求も高くなり、それにより超純水処理技術及び製品の持続可能性、生産の連続性、設備の自動化と簡易性はより厳格な要求を提出した。

プロセスフロー：

原水→原水加圧ポンプ→多媒体フィルタ→活性炭フィルタ→軟水器→精密フィルタ→陽樹脂濾過床→陰樹脂濾過床→陰陽樹脂混合床→微孔フィルタ→水点
原水→原水加圧ポンプ→多媒体フィルタ→活性炭フィルタ→軟水器→精密フィルタ→第1段逆浸透→PH調整→中間水タンク→第2段逆浸透（逆浸透膜表面に正電荷）→精製水タンク→純水ポンプ→微孔フィルタ→水点
原水→原水加圧ポンプ→多媒体フィルタ→活性炭フィルタ→軟水器→精密フィルタ→一級逆浸透機→中間水タンク→中間水ポンプ→エディシステム→微孔フィルタ→水点

浸出源純水針は現在の集積回路用超純水設備に対して先進的な全自動二段逆浸透+EDI電気除塩+研磨混床処理技術を採用し、前置前処理部分に逆浸透処理を組み合わせて使用し、水の各種塩分と不純物を効果的に除去することができ、続いてEDI電気除塩と研磨混床技術を使用して、水質の可溶性イオンを効果的に除去することができ、出水水質をさらに向上させ、最終的な出水水質を用水技術の要求に達することができる。

設備の特徴：

1.輸入過給ポンプを採用し、騒音が非効率で、安定で信頼性がある
2.全自動電気制御プログラム、タッチスクリーン操作も選択でき、使いやすい。
3.全自動前処理システムを採用し、無人化操作を実現し、人工メンテナンスコストを削減する。
4.輸入逆浸透膜を採用し、脱塩率が高く、使用寿命が長く、ランニングコストが安い。
5.現地の水質に合わせた個性的なデザインで、全方位的にニーズを満たす。
6.オンライン水質モニタリング制御、リアルタイム水質変化をモニタリングし、水質安全を保障する。
7.再生用水及び再生汚水処理施設を節約し、生産水率が高い（95%に達することができる）。
8.酸アルカリ備蓄と酸アルカリ希釈輸送施設を必要とせず、安全で信頼性があり、労働者が酸アルカリに接触しないように使用する。
9.設置過程を簡略化し、敷地面積を下げる。

応用分野：

1、半導体材料、デバイス、プリント基板及び集積回路製品、半製品用超純水。
2、トランジスタの生産には主にシリコンウエハの洗浄に用いられ、また少量は薬液の調製に用いられる。
3、半導体材料、結晶材料の生産、加工、洗浄。
4、集積回路生産中の高純水洗浄シリコンシート。
5、電子管生産、電子管陰極塗布炭酸塩配液。
6、光電製品、その他のハイテクマイクロ製品。
7、ブラウン管と陰極線管の生産、原料用純水。
8、電解コンデンサ生産アルミニウム箔及び作業部品の洗浄。