高圧光触媒反応釜はウィンドウ機能を増加し、化学実験の進行状況を随時観察でき、実験過程の把握と制御に便利で、実験をより正確で科学的にする。
高圧光触媒反応釜多種のシミュレーション環境下の化学反応を満たすことができ、実験圧力と実験温度に対して広い設計範囲があり、磁気攪拌装置、ハイビジョンカメラ、真空ポンプ及びコンピュータディスプレイはユーザーのニーズに応じて選択することができ、化学実験をより可視化、より制御可能、より信頼できるようにする。具体的な設計パラメータは次のとおりです。
1.容積:0.5 L、1 L、3 L、5 L
2.主材質:S 32168/S 31603/S 31608/C 276/TC 4
3.設計圧力:20 MPa、動作圧力:16 MPa
4.設計温度:(-10~200)℃
5.磁気攪拌:なし/有
高圧光触媒反応釜特徴:
1.設計回転速度:(50 ~ 1000)r/min作動回転速度は800 r/minに達することができる
2.攪拌トルク:(1.2~3)N.M、
3.温度制御精度:±1℃
4.ウィンドウ:1~3個
オプション:カメラと高速画像収集カードを配置でき、コンピュータ上で釜内の反応状況を動的に観察できる。
注:この装置は真空ポンプを接続すれば釜内の真空を引き出すことができる。