ホールイオン源

ホールイオン源eH 2000 eH 30001978年カウフマン博士は米国でカウフマン&ロビンソン、Inc社を設立し、カウフマンイオン源の研究開発生産とホールイオン源・米国カウフマンのイオン源は40年余りの沈殿と発展を経て、すでに顧客の大きな認可を得ている。イオン源はイオン洗浄、イオンエッチング、補助めっき膜、イオンスパッタリング堆積分野に広く用いられている

ホールイオン源eH 2000 eH 3000技術パラメータ：

血ホールイオン源メッシュなしeHシリーズ

eHシリーズホールイオン源コンパクトな構造,束流が大きく、エネルギーが低く、照射面積が大きい,薄膜及び表面を効果的にナノ精度で処理することができる,プロセスの提供補助めっき膜、予備洗浄などの多種の機能、豊富な型番は科学研究、工業などの多種の応用を満たし、

以下の特徴：

グリッドなしネットワーク

高電流低エネルギー

はっさんビーム>45度（ど）

アノードモジュールを迅速に交換可能

複数の中和器を選択可能

アメリカ血カウフマンイオン源Gridded KDCシリーズ

アメリカ血カウフマン社のカウフマンイオン源KDCシリーズは多種の異なるサイズのイオン源を含み、各種応用を満たす. カウフマンイオン源KDC，カウフマンイオン源を含む,でんしちゅうわき,電源供給器などは、さまざまな真空機器に直接統合することができる,例えば実験室の小型研究開発,コーティング機ロードロックスパッタシステム,巻取りめっき機及び線形めっき.

血むせんしゅうはイオンげんグリッドRFIC Pシリーズ

むせんしゅうはイオンげんRFICP,グリッド網によるイオンビームのエネルギーと方向の制御,精密な薄膜と表面処理を製造するための強力なツールです,膜層の緻密性、光透過、均一性、付着力などを効果的に改善する，プロセスを安定的にサポートします。

RFICPシリーズは完全なポートフォリオを提供します,イオン源を含む,,ちゅうわそうち,電源制御等