HWN−P 1500ナノレーザ直写システム

HWN−P 1500ナノレーザ直写システム‍は専門的に科学研究チームと加工プラットフォームのために設計された小範囲の多機能リソグラフィシステムであり、圧電プラットフォームの移動範囲によって、P 100、P 200、P 500、P 1000、P 1500などの異なる型番に分けられ、構造がコンパクトで、操作が便利で、メンテナンスが簡単で、加工解像度が高く、多種の受容体材料を支持するなどの特徴があり、各種のマイクロナノ構造及びデバイス製造、材料プロセスプローブと小規模生産に広く適用できる。このシリーズは、ユーザーの特別なニーズに合わせて、カスタム設計と製造を提供することもできます。

新概念技術：ワービナーHWN−P 1500ナノレーザ直写システムレーザーと材料の非線形相互作用によって、光学回折限界の制限を突破することに成功し、ナノスケールの加工分解力を実現し、最小の孔径は50 nmに達することができる。

多受容体材料：華維納LDW-Pシリーズは高精度の電力変調（＜1‰）により、金属薄膜、無機相転移材料、フォトレジストなどの多種の受容体材料を互換性がある。

信頼性と使いやすさ：ワービナーHWN-Pは強大なソフトウェア機能を持ち、スカラー書き込み、ベクトル書き込みなどの多種の書き込みモードをサポートし、ユーザーが異なる書き込みシーンに基づいて選択できるようにする。また、LDW-Pシリーズはサンプル書き込み後のオンライン分析にも対応しており、ユーザーがワンストップで設計、書き込み、分析などのステップを完了することができ、作業効率を大幅に向上させた。