HWN−Pナノレーザ直写システム

HWN−Pナノレーザ直写システム科学研究チームと加工プラットフォームのために設計された小範囲多機能リソグラフィシステムであり、圧電プラットフォームの移動範囲に応じて、P 100、P 200、P 500、P 1000、P 1500などの異なるモデルに分けられ、構造がコンパクトで、操作が便利で、メンテナンスが簡単で、加工解像度が高く、多種の受容体材料をサポートするなどの特徴があり、各種のマイクロナノ構造及びデバイス製造、材料プロセスプローブと小規模生産に広く適用できる。このシリーズは、ユーザーの特別なニーズに合わせて、カスタム設計と製造を提供することもできます。

新概念技術：華維納LDW-Pシリーズはレーザーと材料の非線形相互作用を通じて、光学回折限界の制限を突破することに成功し、ナノスケールの加工分解力を実現し、最小の孔径は50 nmに達することができる。

多受容体材料：華維納LDW-Pシリーズは高精度の電力変調（＜1‰）により、金属薄膜、無機相転移材料、フォトレジストなどの多種の受容体材料を互換性がある。

信頼性と使いやすさ：ワービナHWN−Pナノレーザ直写システム強力なソフトウェア機能を持ち、スカラー書き込み、ベクトル書き込みなどの多種の書き込みモードをサポートし、ユーザーが異なる書き込みシーンに応じて選択できるようにする。また、LDW-Pシリーズはサンプル書き込み後のオンライン分析にも対応しており、ユーザーがワンストップで設計、書き込み、分析などのステップを完了することができ、作業効率を大幅に向上させた。