HWN−Lナノレーザ直写システム

HWN−Lナノレーザ直写システムwaferサイズの研究開発と小ロット生産に長けている

HWN−Lナノレーザ直写システム大面積、高精度、リソグラフィ可能、超回折限界加工のレーザー直写システムであり、ウエハサイズの大面積マイクロナノ加工に用いることができ、各種マイクロナノ構造とデバイス製造、小ロットマイクロナノデバイス生産などに適している。このシリーズはL 50、L 100などの異なるモデルを含み、機能が強く、メンテナンスが簡単で、加工解像度が高く、多種の書き込みモードをサポートし、多種の受容体材料をサポートするなどの特徴がある。また、本システムは設計当初、製品のライフサイクルを長くするために、後続の機能アップグレード・モデルチェンジのニーズに対応するための十分な物理的スペースとハードウェア・リソースを保持していました。

蘇州華維納ナノテクノロジー有限公司は2011年に設立されたハイテク革新型会社に登録され、主に新型ナノリソグラフィ技術とマスクレスナノリソグラフィ機の研究開発と産業化に従事している。