集束X線光電子分光計

PHI Genesis 500は次世代の全自動多機能走査集束X線光電子分光法を配置し、操作しやすい多機能オプション付属品であり、全自動サンプル転送停止を実現することができ、同時に高性能大面積とマイクロエリアXPS分析を備え、迅速かつ正確な深さ分析を行い、電池、半導体、機械部品及びその他の各分野に多方面のソリューションを提供する。

シンプルで操作しやすい

PHI GENESISは新しいユーザー体験を提供し、機器の高性能、全自動化、簡単で操作しやすい。

操作インタフェースは、サンプル写真ナビゲーションやSXI二次電子画像の正確な位置決めなどの機能を保持しながら、同じ画面内に通常および高度な多機能試験パラメータを設定することができます。

シンプルでフレンドリーなユーザーインタフェース

多機能オプションアクセサリ

その場の多機能自動化分析は、LEIPSテストガイドからHAXPESコアレベル励起までの全範囲の技術をカバーし、従来のXPSに比べてPHI GENESISは良好な性能価値を体現している。

包括的で優れたソリューション：

高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIBおよびその他のオプション付属品は、すべての表面分析ニーズを満たすことができます。

多量サンプルの大面積解析

調製したサンプルのサンプルホルダーをサンプルチャンバに入れて分析チャンバ内に自動搬送する

3つのサンプルトレイを同時に使用可能

80 mm×80 mmの大型品受けは多数のサンプルを置くことができる

分析可能粉末、粗面、絶縁体、形状複雑など様々なサンプル

標準サンプルホルダ40 mm×40 mmカルボニルサンプルホルダ80 mm×80 mm

集束可能≦5μmのマイクロ領域X線ビームスポット

PHI GENESISでは、集束走査X線源は二次電子映像（SXI）を励起することができ、二次電子映像を利用してナビゲーション、正確な位置決め、多点多領域同時分析試験及び深さ分析を行うことができる。

高速深度解析

PHI GENESISは高性能な深さ解析を実現することができる。X線源、高感度検出器、高性能アルゴンイオン装置と高効率二ビーム中和システムを集束することで、同じスパッタリングエッチングピット内での多点同時分析を含む全自動深さ分析を実現することができる。

角度分解XPS解析

PHI GENESIS XPSの高感度マイクロゾーン分析と高度に再現可能な中和性能はサンプル角分解分析の性能を確保した。また、サンプル傾斜とサンプル回転を組み合わせて、角度の高分解能とエネルギーの高分解能を同時に実現することができます。

応用分野

主に電池、半導体、光起電力、新エネルギー、機械部品、ナノ粒子、触媒、金属材料、ポリマー、セラミックスなどの固体材料及び装置分野に応用される。

全固体電池、半導体、光起電力、触媒などの分野で使用される*機能材料はすべて複雑な多成分材料であり、その研究開発は化学構造から性能までの絶えず最適化に依存している。ULVAC-PHI，Inc.が提供する新しい表面分析機器「PHI GENESIS」の全自動多機能走査集束X線光電子分光計は、性能、高い自動化と柔軟な拡張能力を持ち、顧客のすべての分析ニーズを満たすことができる。

多機能オプションアクセサリ

UPS紫外光電子分光法、LEIPS低エネルギー反射電子分光法、AES/SAM Auger電子分光法、REELS反射式エネルギー損失分光法、双陽極X線源（Mg/Zr、Mg/Al）、Ar-GCIBアルゴンクラスターイオン源、Ar-GCIBクラスターサイズ測定ツール、C 60クラスターイオン源（20 KV）、サンプル加熱冷却モジュール、4電気接点加熱冷却モジュール、サンプル保護搬送モジュール、SPSサンプル位置決めシステムなど。

平面図

インストール要件