デスクトップマスクレスリソグラフィシステム

デスクトップマスクレスリソグラフィシステム

ブランド：ナニット

産地：シンガポール

ナニットBEAM卓上マスクレスリソグラフィシステムマスkless lithography System/デスクトップ型レーザー直写システムDirect Laser Writing Systemはマイクロナノメートル級の構造パターンを加工処理し、高価なマスクを必要とせず、集束レーザービームスキャンにより基板表面のレジストに直接変化量露光を行い、マイクロメートルからナノメートルスケールのパターン加工を実現する。その優れた性能を確保すると同時に、小型化設計は操作をより便利にし、迅速な加工処理を実現し、マイクロナノデバイスの科学研究と生産の効率を高めるだけでなく、コストを効果的に節約した。

ビームエンジンは紫外レーザービームを回折限界点に集束し、この集束点を通じて設計されたパターンスキャンに基づいてレジストを露光する、同時に、大きいサイズのウエハ/基板に対して、精密ステッパーによってウエハ/基板を移動させて複数回露光を行い、続いて複数回露光パターンを縫合し、ウエハ/基板全体に対するマイクロナノパターン加工を完成した。このビームエンジンは、500 nm未満の特徴的な線幅を6インチウエハ上で加工することができる。

lコンパクト

-コンパクトなフル機能マスクレスリソグラフィ

l強力だ

-500 nm未満の特性線幅処理

-2秒以内に単一領域パターン露光を実現

-加工寸法150 mmX 150 mm

l超高速オートフォーカス

-1秒以内にフォーカスを完了する

-圧電アクチュエータと閉ループ集束光学制御

l無喧多層。

-半自動多層アライメントを数分で実現

ソフトウェア制御インタフェース：

-ソフトウェアインタフェースの人間的な設計、WASDナビゲーション、右クリックでどこにでも到着

-自動画像認識

-数分で多層アライメントを実現

-パターンを何秒間もフォトレジストに露出したり、文字を書いたりする

-ロード、位置合わせ、露出のみ

-類似CNCシステムナビゲーション操作

-多層露光時、GDSパターンの可視化ソフトウェアがロードされますGDS小さな地図、ワンクリックでウエハ上の任意の領域にナビゲートする

適用例：

シリコン基板上のパターンアレイは、各セルが50×63μm、

隣接パターン間の間隔は3μm

レジスト：AZ 5214 E

開環共振器アレイ、右側距離1.5μm

左側の分離距離は2μm、外輪径は80μm

交差電気容器（IDCs）、2μmゲート線幅

レジスト：AZ 5214 E

メタライズオープンリング非対称共振器

0.8μmテーパ部、側面20µ90μmコンタクト電極

レジスト：AZ 5214 E

応用分野：

• フォトニクス分野：フォトニック結晶、導波路、マイクロレンズ、回折光学素子などの製造に用いられ、これらの素子は光通信、光計算、光学イメージングなどの分野で広く応用されている。例えば、特定の光学性能を有するマイクロレンズアレイを製造し、イメージングシステム、光センサなどのデバイスに使用して、その性能と集積度を向上させることができる。

• 生物医学分野：組織工学用ステント、マイクロフロー制御チップ、バイオセンサなどの製造に使用することができる。

• マイクロエレクトロニクス分野：集積回路製造において、マスク、レジストパターンなどの作製に用いられ、特に小ロット、高精度の集積回路チップ製造に対して、レーザー直写技術はコストが低く、柔軟性が高いという利点がある。さらに、マイクロ機械構造、マイクロセンサ、マイクロアクチュエータなどのマイクロ電気機械システム（MEMS）デバイスを製造するためにも使用することができる。