製品概要低温触媒型ガス精製システムは自己特許触媒と吸着剤を使用し、使用寿命が長く、精製深さが高く、抗原原料ガスの瞬間変動能力が強いなどの利点があり、物理吸着と触媒反応を併用し、室温で不活性性を得ることができる。..
製品の概要
低温触媒型ガス精製システムは自己特許触媒と吸着剤を使用し、使用寿命が長く、精製深さが高く、抗原原料ガスの瞬間波動能力が強いなどの利点があり、物理吸着と触媒反応を併用し、不活性ガス及びN 2中のH 2 O、O 2、CO、CO 2、H 2とMCHCを室温で1 ppb未満のレベルに精製することができ、H 2中のO 2、CO 2とH 2 Oなども除去することができる。このシステムは手動、半自動、全自動の3種類の操作タイプを備えており、使用要求に応じて選択することができる。
製品のパフォーマンス
◎99.999%純度以上の原気配合に適している
◎この製品はデュアル構造で、1組の作業、もう1組の再生予備
◎精製深さが高く、輸出の各種不純物含有量<10 ppb◎電気化学研磨316(L)ステンレス鋼
◎高効率粒子フィルタ内蔵
◎触媒と吸着プロセスの併用
◎動作温度が低く、設備がより省エネ
製品の用途
◎保護ガス精製:鉄鋼、石化、機械業界
◎高純度単結晶シリコン、ウェーハエピタキシー、大規模集積回路、光電製品の生産などの電子工業ガス端末の精製
◎半導体プロセス設備:CVD、MOCVD、HVPE、拡散炉など
◎バルクガス精製
システムパラメータ