ニオブ酸リチウム集積光学装置のカスタム開発サービス

天津領芯科学技術発展有限公司は豊富なニオブ酸リチウム集積光学装置設計技術と成熟したニオブ酸リチウム光導波路製造技術、ニオブ酸リチウム光電気集積チップ製造技術とニオブ酸リチウム集積光学装置パッケージ技術を有し、顧客のニーズに応じて各種カスタム開発技術サービスを提供することができる。お客様が選択できるカスタマイズオプションは、主に次のとおりです。

1、デバイスのタイプ：光導波路チップ、PPLN導波路チップ、光変調器、PPLN導波路デバイスなど、

2、ウエハ厚さ：0.5 mm、1 mm、ニオブ酸リチウム単結晶薄膜など、

3、結晶接線：X接線Y伝、Z接線Y伝、X接線Z伝、

4、導波路タイプ：チタン拡散、アニール陽子交換、

5、動作波長：850 nm、1064 nm、1310 nm、1550 nmなど、

6、変調帯域幅：DC ~ 300 MHz、2.5 GHz、10 GHzなど、

7、尾繊タイプ：パンダ偏光保護光ファイバー、単一モード光ファイバー、

8、電気インタフェースのタイプ：3 Pin、SMA；

9、光ファイバコネクタ：FC/PC、FC/APC、900 um松スリーブ、

10、包装形式：伐採可能な金属管殻、セラミック管殻、裸チップなど。