化学機械研磨液調製装置

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概要

化学機械研磨液の製造装置は主にCMP（化学機械研磨液）（酸化ケイ素ナノ粒子に基づく研磨液、酸化セリウムナノ粒子に基づく研磨液、炭化ケイ素化学機械研磨液、酸化アルミニウム系とシリカゾル系の超精密加工系化学機械研磨液を含む）の分散と各種マイクロナノ材料、新エネルギー材料、無機難燃剤などの破砕、分散、分級、改質などに用いられる。

製品詳細

化学機械研磨液調製装置主にCMP（化学機械研磨液）（酸化ケイ素ナノ粒子に基づく研磨液、酸化セリウムナノ粒子の研磨液、炭化ケイ素化学機械研磨液、酸化アルミニウム系とシリカゾル系の超精密加工系化学機械研磨液を含む）の分散と各種マイクロナノ材料、新エネルギー材料、無機難燃剤などの破砕、分散、分級、改質などに用いられる。

化学機械研磨液製造装置の特徴：

テストされた工順は、すでに量産を実現している

インテリジェント制御、リアルタイムモニタリング、完全なデータストレージ、直感的なグラフ表示

回転速度調整可能、温度制御可能、超音波強度調整可能、タイミング可能

操作が便利で簡潔、洗浄が容易

技術パラメータ：

物品	じっけんがた実験タイプ	せいさんがた生産タイプ
温度温度（℃）	-30℃~80℃	-20℃~80℃
分散方法分散タイプ	れんぞくしき連続的な	れんぞくしき連続的な
材質材料の品質	ガラス、ステンンレス鋼、チタンガラス又はステンレス鋼	ステンンレス鋼、チタンステンンレス鋼鋼
仕様仕様	ようせきによる体積による	カスタマイズカスタマイズされた
トラフィックりゅうそく	50~1000ml/min	カスタマイズ可能カスタマイズされた
ゆうでんたいねんどゆうでんたいねんど	≤104センチポアズ	≤104センチポアズ
かき混ぜる回転数かくはんそくど	500~3000rpm実需に応じて選択	500~3000rpm実需に応じて選択
切り取り回転数かくはんそくど	1400~20000rpm実需に応じて選択	1400 ~ 1200回転/分実需に応じて選択
電源力	220V/50Hz	220V/50Hz、380V/50Hz
超音波パワー超音波パワー	200~3000W	カスタマイズカスタマイズされた
超音波周波数超音波頻度	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz
表示方法モニタモデル	デジタル、LCDタッチスクリーンデジタル化液晶ディスプレイタッチスクリーン必要に応じて選択可能	LCDタッチパネルLCDタッチパネル
その他その他	温度、パワー調整可能温度、でんりょくちょうせい

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