滴定法による沈殿制御

pH制御：アンモニア水（NH₃·H₂O型)またはNaOH のようえきちょうせつpHアルカリ性範囲（通常8－10）、チタンリチウム複合体の均一な沈殿を促進する。

温度と攪拌：反応温度を維持する40－60℃、高速攪拌（500－1000回転分）局所的な過飽和による粒子凝集を回避する。

界面活性剤：添加PEG、CTAB は等鋳型剤、微小球の粒径を制御する（目標範囲：50－200 μm）。

3. 滴定成型

微小球成形器を用いた（MS−1）液体を純水に滴定し、均一に成形する。滴定プロセスは、均一な小球を形成するために滴定速度及び流体流量圧力を制御する必要がある。

4. か焼処理

不活性雰囲気（N突き固めまたはAr）下焼成（400－800℃, 25時間）、有機物を除去し、結晶性を高め、安定した多孔質構造を形成する。