よんターゲットマグネトロンスパッタリングめっき装置

マグネトロンスパッタリング相は通常のプラズマスパッタリングに比べてエネルギーが高速で速い利点があり、めっき速度が高く、サンプル温度が低くなり、典型的な高速低温スパッタリングである。マグネトロンターゲットには水冷中間層があり、水冷機は効率的に熱を奪うことができ、熱がターゲット面に集まるのを避け、マグネトロンめっき膜を長時間安定して動作させることができる