業界の課題

超純水（UPW）生産の一貫性はマイクロエレクトロニクス製造にとって極めて重要であり、製品品質の保護に役立つ。基本的な超純水モニタリングのほか、傾向から外れた結果にどのように迅速に反応し、効果的な故障排除とプロセス制御を行うかにおいて、マイクロエレクトロニクス工場も挑戦に直面している。その他の注目分野としては、化学品の純度を確保してプロセス性能と量産を改善し、廃水と再用水を監視することが挙げられる。

マイクロエレクトロニクスメーカーは、製造中にさまざまな有機汚染物質に遭遇し、次のようなさまざまな課題を経験します。

　　●給水及び高純度プロセス化学品中の低ppmレベル濃度

　　●最終研磨前のpptレベル濃度

　　●再用水及び廃水用途における複雑なサンプルマトリックス

　　●シリカゲルなどの有害粒子状物質の重要な需要を監視する

　　ソリューション

Sievers総有機炭素（TOC）分析装置と超純水（UPW）ホウ素分析装置により、ウィリヤはマイクロ電子製造プロセスの各ステップに適した分析ソリューションを提供することができる。その広い分析範囲と応用の多機能性を考慮して、Sievers TOC分析計は超純水、プロセス化学品の純度、再用水と廃水処理の監視測定に用いることができる。シリカの前にホウ素が樹脂床から漏れてくるため、Sievers超純水ホウ素分析器はホウ素濃度の上昇を検出することで、シリカの制御と樹脂床の管理を実現することができる。

　　包括的で柔軟な監視オプション

低濃度マイクロエレクトロニクス応用におけるTOCを監視するためによく用いられる2つの検出技術がある：膜伝導率（Membrane Conductometric）と直接伝導率（Direct Conductometric）。Sieversの製品はこの2つの技術をカバーしており、さらにプロセス化学品や廃水などのより複雑な基質に適した湿式化学酸化法を提供している。

次の機器と製品を提供できます。

　　●Sievers M 9 e、M 500 e及び500 RLe TOCアナライザはSievers膜伝導度検出技術を用いている

◆Sievers膜伝導率技術はほとんどの超純水系に存在するハロゲン化有機物とアミンによる偽陽性と偽陰性を除去する

　　●Sievers CheckPointe TOCセンサは直接電気伝導度検出技術を採用する

　　 ◆非重要な超純水モニタリングポイントに適した経済的な選択肢を提供

　　 ◆迅速な診断とトラブルシューティングのためのツール

　　●Sievers InnovOx TOC分析器は非分散赤外（NDIR）検出と超臨界水酸化（SCWO）技術を用いている

　　 ◆濃酸、アルカリ及び純化学品中の微量有機物を正確、確実に検出することができる

　　 ◆廃水と最大30%のハロゲン水を監視することができます

　アプリケーション要件とSieversのソリューション

　　給水、超純水及び再用水システムのモニタリング

Sievers M 9 eオンラインおよびポータブルTOC分析器は、最も複雑な水システムとアプリケーションのために設計されています。この分析器の分析範囲は0.03 ppbから50 ppmであり、膜伝導率技術を用いて、システム給水、逆浸透産水及び最終産水中のTOC濃度を正確に測定した。オプションのTurboモードを使用して、わずか4秒の分析時間を必要とし、SieversM 9 e分析計は再用水検査に適した理想的な故障調査ツールである。

Sievers M 9 eは、

　　●計器と計器のマッチング

　　●低TOC超純水応用における低濃度検出の安定性

　　●キャリブレーション、検証、データ分析などの自動化された操作

　　●12ヶ月校正安定期

　　●先進的なオートゼロ調整機能は、超純粋レベルの精度と精度に適している

　化学品と廃水の純度

プロセス性能を実現し、量産を最適化するために、過酸化水素、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、硫酸及びその他のエッチング/めっき化学品などのプロセス化学品の中で、TOCを制御することは極めて重要である。Sievers InnovOx TOC分析計は、このようなモニタリング、および廃水と再用水中の有機物モニタリングに非常に適している。

Sievers InnovOxは、

●工場はより賢明なコンプライアンスと処理決定を行う

　　●リアルタイムで直接的な炭素検出を提供でき、間接的な酸素要求量検出とは対照的である

　　●超臨界水酸化（SCWO）技術を用いた複雑なマトリックスの処理

Sieversアナライザとそのマイクロエレクトロニクス製造における応用まとめ

　　参考文献

1.Godec、リチャード D.、「浸UPWの有機1 浸1 1.Godec、リチャード D.、UPWの有機1 1 1.Godecの有機1 1 1 1.Godec、リチャード D.、「UPWの有機1.Monitoring and Controlling UPWの有機1 1 浸1 1 1.

2.Godec、リチャード D.、自動標準付加装置を使用する超純水 TOC 分析器の性能比較。 「Semiconductor Pure Water and Chemical Conference, 2000 Proceedings」による出版と著作権保護。

3.Dunn R.「新しい分析技術は饲料、蒸気および凝縮システムでシリカの排除を促進します」。