半導体製造は厳密なプロセスであり、微量の汚染物質でも重大な欠陥と製品の良率低下を引き起こす。水は生産のほとんどの段階で製品と相互作用し、潜在的な汚染の主な源である。Sievers Boron Ultraボロンアナライザリアルタイム、連続的なホウ素測定を提供し、プロセスエンジニアに製品の完全性を保障し、水管理システムを最適化するために必要なデータを提供する。

1 pptレベルでホウ素を検出することにより、この分析器は、イオン交換樹脂が空乏に近づいたときに、シリカや他のイオン汚染よりも先にホウ素の漏洩を監視するためのプロアクティブなイオン交換プロセスを提供することができるため、重要な洞察力を提供することができる。これにより、メーカーは樹脂管理方法を最適化し、原材料の浪費を減少し、樹脂の寿命を延長し、運営コストを最大限に削減する。

感度を15 pptから10 pptに高め、毎時20個までのリアルタイムデータポイントの新しいサンプリング周波数によりデータ解像度を高め、潜在的な問題に迅速に反応する。

シンプルなセットアップと直感的な診断機能により、メンテナンス要件が軽減され、作業者が使いやすくなります。

この分析器は一次及び精製サイクル中のホウ素含有量を測定し、厳格なホウ素規格に適合することを確保し、そしてプロセス最適化作業を支持することができる。

Sievers Boron UltraはCE、UKCA、ETL、UL Std.61010-1とCSA 22.2 No.61010-1セキュリティ認証とIP 45レベルを持ち、厳格なグローバル基準を満たしている。

超純水分析分野での数十年の経験により、Sieversアナライザは革新と信頼性の面で継続している。Sievers Boron Ultraオンライン超純水ホウ素分析器この伝統に基づいて、現在の厳格な純度要件を満たし、将来の新たな課題に対応するために必要なツールをマイクロエレクトロニクス業界に提供しています。

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