こうおんしりょうだい高温環境下で安定的にサンプルを支持し、加熱することができる実験設備であり、材料科学、化学、物理及び地質鉱物などの分野に広く応用され、その核心機能は正確な温度制御を通じてサンプルの高温条件下での性能特性評価と過程観測を実現することである。

一、技術パラメータ：温度範囲と精度は核心指標である

おんどはんい

通常こうおんしりょうだい動作温度は室温から1500℃までカバーし、例えば真空高温ホットテーブルは白金金線加熱ユニットとサファイアサンプルシートを採用し、1500℃の高温加熱を実現でき、セラミックス焼結、金属相転移などの**条件の研究に適している。

一部の設備はモジュール化設計により温度下限を拡張し、例えばQSense®高温サンプル台は外部加熱器/冷却装置を通じて、温度範囲を4-150℃に広げ、低温相転移の研究需要を満たす。

温度制御精度

設備の温度安定性は±1℃に達し、例えば真空高温熱台に中心孔熱電対を備えてリアルタイムで温度を校正し、金属相転移、高分子材料の熱挙動などの実験の正確性を確保する。

一部の設備はプログラムの昇温と恒温保持をサポートし、例えばコンピュータ制御システムの真空高温ステージを配置することで、複雑な温度制御プロセスを実現し、材料合成とアニールプロセスに適応することができる。

二、構造設計：モジュール化と安全性を共に重視する

加熱ユニット設計

コア加熱素子は耐高温材料を採用し、例えば真空高温ホットテーブルは白金糸を用いて陶質カップを巻き、抗酸化特性を備えている、TEM固体超高温加熱試料台はタングステン線加熱素子を採用し、1500℃以上の高温に耐えることができる。

試料台にはサファイア基板またはセラミック基板、例えばφ7 mmサファイア基板を配置し、光学系に最小動作距離6.0 mmの対物レンズを適合させ、高温下での顕微観測の鮮明度を確保する。

防護と安全メカニズム

二層水冷防護システムはレンズと操作者の安全を保護し、例えば真空高温ホットテーブルの動作温度が500℃を超えると自動的に冷却を開始する。

気密試料チャンバは10µmbar真空度と保護性ガス環境を支持し、試料の酸化を防止し、不活性ガス環境下の合金高温相転移研究に適している。