マスクレスリソグラフィ装置高精度光学系を通じて回路パターンを光感受性材料に直接投射する技術試験装置であり、従来のリソグラフィに必要なマスク版の製作過程を排除した。この装置は、レーザー直写、電子ビーム直写などの技術タイプを含む光学系と荷電粒子類に分けることができる。半導体製造において、その顕著な優位性はリソグラフィ効率を高め、生産コストを下げ、研究開発周期を短縮することであり、バイオチップ、マイクロ電気機械システム及び先進的なパッケージ分野に広く応用されている。
マスクレスリソグラフィ機は空間光変調器走査技術または荷電粒子ビーム直写方式に基づいて、デジタルレイアウトを直接リソグラフィゲル上の物理図形に変換し、マスクレスの高速成形を実現する。そのコア技術指標には、最小線幅、自動解像度切り替え、階調リソグラフィ機能が含まれる。
応用分野
鄒マイクロフロー制御チップの研究開発：マイクロ流体、マイクロ電子などの分野の研究に適用する。
鄒電力チップリソグラフィ：炭素管集積回路の多版図実験を支持する。
鄒3 D光学素子鄒：階調リソグラフィ技術は三次元構造加工を実現する。
マジックナノUV−Smartマスクレスリソグラフィ装置のコア機能は以下を含む：
鄒高精度加工鄒：デジタルマイクロミラー（DMD）技術を用いて、300 nm線幅精度を実現し、接合誤差が極めて小さく、構造エッジが平滑である。
鄒高効率直写速度：毎分300 mm²の加工が可能で、迅速なモデリングと小ロット生産に適している。
鄒全自動制御鄒：集積化設計、操作簡便、12インチ基材を支持し、マイクロフロー制御、半導体などの分野に適用する。
鄒工業級応用：自己研究アルゴリズムと高性能ハードウェアを結合し、高いアラインメント、彫刻精度を備え、大規模な生産需要を満たす。