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北京市通州区新華西街58号院万達広場B席1311
巨力光電(北京)科技有限公司
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電子科学技術大学の李厳波教授チームはNature Communications(ネイチャー・コミュニケーション)誌に最新の研究成果「Interface engineering of Ta3N5非常に効率的な光電化学水分裂のための薄膜光陽極」。
チームは窒化タンタル(Ta3N5)フィルムを界面修飾し、そして、この効率的な界面修飾方法をNiCoFe-Bi酸素発生助触媒と結合し、In:GaN/Ta3N5/Mg:GaN薄膜の光陽極光電変換効率は3.46%に達し、最高光電変換効率であった。その中で、当社が代理しているXES-40 S 3-TT光触媒専用AA*太陽光シミュレータは研究過程で有効な助けを提供した。

主な内容
先進的な界面修飾工学はデバイスの光電変換効率を高めるだけでなく、デバイスの安定性を高めることもできる。本文ではTaに対して3N5薄膜光陽極のTa3N5/電解液界面とTa3N5/バック電極界面は同時に界面修飾を行い、光電変換効率を大幅に向上させ、同時に比較的に長い時間の安定した光電触媒を実現した。本文は“1歩高温窒化法”を用いて、電子ビーム蒸発と原子層堆積の2種類の方法を結合して、“サンドイッチ構造”の薄膜光陽極In:GaN/Taを製造した3N5Mg:GaN。

内部:GaN/TTa3N5/Mg:GaN薄膜光陽極の製造フロー概略図
本文はPL試験を通じて、Mg:GaNとIn:GaN層は表面不動態化の作用を果たすことができて、Taを下げることができることを表明した3N5薄膜中の欠陥濃度。本文は電気化学試験により、この界面修飾方法は表面状態欠陥によるFermi準位ピン止め作用を減少させ、光陽極デバイスの開始電位を低下させることを表明した。最後に、この効率的な界面修飾方法をNiCoFe-Bi酸素発生助触媒と結合し、In:GaN/Ta3N5/Mg:GaN薄膜の光陽極光電変換効率は3.46%に達し、最高光電変換効率!

In:GaNとMg:GaN層In:GaN/タ3N5/Mg:GaN薄膜における作用

本文では太陽光シミュレータ(SAN-EI ELECTRIC、XES-40 S 3-TT)を用いて太陽光をシミュレートすることに言及し、強度較正は100 mW cmである-2(AM1.5G)試料の長時間堆積にも、PEC試験にも使用した。

XES-40 S 3-TT光触媒専用AA*太陽光シミュレータ
技術パラメータ:
キセノンランプ出力:150 W
有効照射面積:40 mm*40 mm
スペクトル不整合性:<±25%AM 1.5 G*
光強度不安定性:<1%*
光強度ムラ:<2%*
キセノンランプ寿命:2000時間
シャッタコントローラ:Twin time全自動制御