現像機はフォトリソグラフィプロセスにおけるコアデバイスであり、そのコア作用はウエハ表面のフォトレジストを露光した後に形成される「潜像」（肉眼では見えない）であり、化学作用を通じてはっきりと見える微細回路パターンに転化し、半導体チップ製造、精密電子部品生産における「露光」と「エッチング」を接続するキーポイントである。

現像機の動作フローは3ステップに簡略化できる：まず、露光後のウエハを現像チャンバに搬送する、その後、スプレーまたは浸漬方式により、現像液をウエハ表面に均一に作用させ、未露光（ポジテープ）または露光（ネガテープ）のフォトレジストを選択的に溶解し、潜像を発現させる、最後に、洗浄により残留現像液を除去し、乾燥硬化し、安定した回路パターン基礎を形成する。

その核心構造は輸送システム（ウエハの安定した正確な輸送を保証する）、現像システム（現像液の温度、濃度と作用時間を制御する）、洗浄乾燥システム（図形の安定性を高める）及び制御システム（自動化の正確な調整を実現する）を含む。チッププロセスが3 nm以下に進むにつれて、現像機はより高精度、より高効率、よりインテリジェント化の方向に発展し、半導体産業のマイクロ化、高密度化にコアサポートを提供している。