ラインウェハ乾燥機超臨界技術を利用して、超臨界状態では、物質は気体でも液体でもなく、気体の拡散性と液体の溶解能力を持っている。この特性により、超臨界流体がウェハ表面の微小空隙に効率よく浸透し、残留した水分や洗浄液を持ち去ることができ、迅速な乾燥を実現することができる。

　　ラインウェハ乾燥機主に半導体製造過程におけるウエハ乾燥工程に用いられる。ウエハが洗浄されると、表面には水や洗浄液の残留物が多く残り、これらの残留物には不純物が溶解しており、これらの残留液を自ら蒸発乾燥させると、不純物がウエハ表面に再付着し、汚染を引き起こす。そのため、これらの残留液体を除去し、ウエハ品質を保証するために、ラインウエハ乾燥機を用いてウエハ表面を乾燥処理する必要がある。

製品の特徴：

高信頼性：堅牢で耐久性のある構造設計と安定した運転性能を採用し、長期使用中の一貫性と信頼性を確保し、メンテナンス頻度を減らす。

高効率自動化：ウエハ乾燥工程のために設計された上下材料機構は、先進的な生産ライン上の設備の自動化需要を満たし、生産効率を高める。

超清浄環境適応：ウエハ生産に適した超清浄環境、乾燥過程に汚染を導入しないことを確保し、ウエハ品質を保証する。