一、プロジェクトの背景：半導体が第二の発展曲線を迎える

生成型人工知能の推進の下で、ここ2年半導体産業は大幅に反発した。半導体業界は成長を続け、2030年に突破の見込み1兆ドルのマイルストーン。我が国では、半導体が「首を絞められている」という厳しい現実に直面して、その発展速度は急速で、しかも需要量は大きい。国は半導体の発展にも非常に重視し、支持政策を打ち出し続けている。

二、企業概況：半導体技術の国産化に取り組む

精量科学技術サービスのある半導体企業は国産化代替に力を入れ、炭化ケイ素プロセスを専門に配置し、長年のプロセス蓄積を経て、現在、エッチングプロセス設備、薄膜堆積プロセス設備などのシリーズ製品を形成し、主に炭化ケイ素、窒化ガリウムなどの化合物半導体加工などの半導体前駆プロセス段階に用いられている。

三、作業状況の需要：供給周期を超えて、生産品質を保証する

この半導体企業は下流の顧客に薄膜の堆積、エッチング、ゴム除去などの設備を提供し、基板材料の上に薄膜画層を作製し、堆積してチップの機能層を形成する。化学蒸着（CVD）過程において、気液混合蒸発器を用いて液体源材料を蒸発させて混合し、それによって堆積過程において均一な薄膜を形成する必要がある。

この半導体企業は、ある海外ブランドに代わる必要があり、次のようなニーズを提供しています。
1.供給サイクルが短く安定している;
2.液体の十分な蒸発を確保する、
3.応答速度が速く、混合蒸発ガスの出力が均一である;

4.液体流量精度が規定基準に.

四、解決方案：供給周期が短く、生産品質を保証する

ニーズを理解した後、混合された媒体と状況に基づいて、お客様のために気液混合蒸発システムを設計します。

システムは制御可能な蒸発混合器を構成しているx1、液体質量流量制御器x1、ガス質量流量制御器x1、温度制御器x1。

図：気液混合蒸発システム用ACU 20 CEM制御可能蒸発混合器製品

システム構成は次のとおりです。

制御可能な蒸発混合器：ガスの最大レンジは10 ln/min、液体（水）の最小レンジは120 g/hである。
液体質量流量制御器：精度±0.25%F.S、繰返し精度0.05%F.S。
ガス質量流量制御器：精度±0.5%F.S、繰返し精度±0.2%F.S。

温度制御器：最大200℃~ 300℃の高温を制御でき、指定された媒体蒸発条件を十分に満たすことができる。

具体的なパラメータコミュニケーションがありますので、ページのプロダクトマネージャーに連絡してください！