半導体深紫外リソグラフィプロセスにおいて、NH 8323、HCL、HFなどの痕跡量級AMC空気分子汚染物は製品品質の「ステルスキラー」と呼ばれ、化学増幅レジストとの反応は半導体装置の性能に直接影響を与えるが、伝統的なモニタリング方法は操作が複雑で、音が遅く、精度が不足しており、業界のリアルタイム精確なモニタリング需要を満たすことが難しい。この背景の下で、デュークテックはオリオン3100 S AMC空気分子汚染物モニタリングシステムを発売し、技術的に業界の痛い点を突破し、半導体クリーンルームモニタリングにソリューションを提供した。

半導体業界に特化したモニタリング装置として、オリオン3100 S AMC空気分子汚染物モニタリングシステムのコア優位性はCEAS（キャビティ増強吸収スペクトル）技術に由来する。従来の衝突フィルター、イオンクロマトグラフィーなどの間接測定法、およびCRDS技術に比べて、このシステムはレーザービームを厳密にアライメントする必要がなく、設置が簡便で機械的安定性が強く、迅速かつ正確に痕跡量級汚染物を捕捉することができる。その検出精度は業界レベルに達し、HCl、HF検出限界は0.1 ppbまで低く、NH 8323検出限界はさらに0.1 ppb未満で、sub-ppb級のリアルタイム測定を実現すると同時に、大気中の水蒸気、CO 832、O 832などの成分の交差干渉を効果的に回避し、データの正確で信頼性を確保する。

システムは機能設計において半導体生産シーンに十分に適合し、多次元コア競争力を備えている。応答速度は極めて速く、各チャネルはわずか5秒で検出を完了でき、1-64チャネルの柔軟な配置を組み合わせることで、広い測定領域をカバーでき、多ガス高感度応答の需要を満たすことができる。Linuxシステムコンピュータを内蔵し、マスデータストレージとマルチインタフェース出力をサポートし、Ethernet、RS 485/RS 232または4-20 mAシミュレーションモジュールを通じて、4-6台の分析器データを統合することができる。専用DUKE HMIソフトウェアは多点サンプリング制御、リアルタイムデータ曲線表示、アラーム、履歴トレンド分析などの機能を統合し、遠隔ネットワーク制御をさらにサポートし、ユーザーはブラウザを利用して任意のネットワーク接続場所で多レベル権限操作を実現でき、デュークテック本社またはサービスプロバイダに接続して遠隔診断を行うこともできる。

また、オリオン座3100 S AMC空気分子汚染物モニタリングシステムは便利で経済的である。310ステンレス可動キャビネットを採用し、プラグアンドプレイで、数分以内にクリーンルームの配置を完了することができます。試薬、放射源などの消耗品がなく、固体電子デバイスには可動部品がなく、メンテナンスコストが極めて低く、メンテナンス期間が長い。システムはまた、独立したプログラム可能な警報、リレー設置、電源オフデータを失わない、80メートルの超長パイプラインサンプリングなどの利点を備えており、開放的な通信プロトコルは二次開発と集積に便利で、半導体業界の厳しい生産要求に適している。

このシステムの発売は、半導体装置のインピーダンス整合性を効果的に向上させ、フィルタの使用寿命を延長し、生産停止時間を減少させるだけでなく、さらに科学技術の賦能で業界のクリーン生産レベルのアップグレードを推進することができる。デュークテックは長年の半導体業界の経験に基づいて、技術と親切なサービスで、半導体企業に信頼性の高いAMC監視保障を提供している。